[发明专利]成膜装置

权利要求书

1.一种成膜装置，其特征在于，包括：

成膜室，在真空中将希望的膜成膜在基板上；

放入取出室，经由第一开闭部被固定于所述成膜室，并能将内部减压为真空气氛；

第二开闭部，设置在所述放入取出室的、与设置有所述第一开闭部的面相反的面上；以及

托架，以所述基板的成膜面与重力方向大致平行的方式保持所述基板，

所述托架或所述基板通过所述第二开闭部被搬入、搬出所述放入取出室，

在所述放入取出室中并列配置多个所述托架，

在所述放入取出室与所述成膜室之间所述多个托架被并列地搬入、搬出，

在所述成膜室中对保持在所述多个托架上的多个所述基板同时进行成膜。

2.一种成膜装置，其特征在于，包括：

成膜室，在真空中将希望的膜成膜在基板上；

放入取出室，经由第一开闭部被固定于所述成膜室，并能将内部减压为真空气氛；以及

基板装卸室，经由第二开闭部被固定于所述放入取出室，并对能够保持所述基板的托架装卸所述基板，

所述托架以所述基板的成膜面与重力方向大致平行的方式保持所述基板，

在所述基板装卸室内并列配置多个所述托架，

在所述基板装卸室与所述放入取出室之间所述多个托架被并列地搬入、搬出，

在所述放入取出室与所述成膜室之间所述多个托架被并列地搬入、搬出，

在所述成膜室中对保持在所述多个托架上的多个所述基板同时进行成膜。

3.根据权利要求2所述的成膜装置，其特征在于，包括：

多个流程模块，以所述基板装卸室、所述放入取出室、以及所述成膜室为一组；以及

驱动机构，共用于多个所述基板装卸室，搬入、搬出所述基板。

4.根据权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，所述流程模块并列配置，所述驱动机构具有移动部。

5.根据权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，所述流程模块被设置为从所述驱动机构放射状地延伸。

6.根据权利要求1或权利要求2所述的成膜装置，其特征在于，

包括多个由一个所述放入取出室与一个所述成膜室连接构成的流程模块，

所述流程模块并列配置。

7.根据权利要求1或权利要求2所述的成膜装置，其特征在于，包括由一个所述放入取出室与多个所述成膜室分别连接，所述多个成膜室并列配置的流程模块。

8.根据权利要求1或权利要求2所述的成膜装置，其特征在于，包括：

流程模块，由一个所述放入取出室与一个所述成膜室连接构成；以及

驱动机构，将所述基板搬入、搬出所述流程模块，

所述流程模块被设置为从所述驱动机构放射状地延伸。

9.根据权利要求1至8中的任一项所述的成膜装置，其特征在于，所述托架能够保持多个所述基板。

10.根据权利要求1至8中的任一项所述的成膜装置，其特征在于，一个或两个所述托架能够以两块所述基板的成膜面对置的方式保持所述基板。

11.根据权利要求1至10中的任一项所述的成膜装置，其特征在于，包括搬送部，能够收容所述基板，并将所述基板搬送到所述成膜装置的外部。

12.根据权利要求1至11中的任一项所述的成膜装置，其特征在于，所述成膜室具有通过CVD法将微晶硅成膜在所述基板上的成膜部。

13.根据权利要求1至12中的任一项所述的成膜装置，其特征在于，所述放入取出室能够同时收容保持有搬入所述成膜室前的基板的第一托架、以及保持有从所述成膜室搬出后的基板的第二托架。

14.根据权利要求1至13中的任一项所述的成膜装置，其特征在于，

所述成膜室具有多个电极单元，

所述电极单元包括：

阴极单元，具有施加有电压的阴极，所述阴极被配置在两侧；以及

一对阳极单元，具有与配置在所述阴极单元的两侧的所述阴极隔开并对置的阳极，

所述托架能够以所述基板与所述阴极对置的方式保持所述基板，能够将所述基板插入到所述阴极与所述阳极之间。