[发明专利]分析用于光刻的掩膜板的方法

权利要求书

1.一种分析用于光刻的掩膜板的方法，其中

用于第一焦点设置的掩膜板的空间图像被产生并存储到第一空间图像数据记录中，

所述空间图像数据记录被转移到模拟光刻晶片曝光的算法，其中，对至少两个互不相同的能量剂量，基于所述空间图像数据记录模拟每种情况下施加到晶片的表面的光刻胶层的曝光和显影，

在离所述晶片表面的预定高度处，确定每种情况下将具有光刻胶的区域与不具有光刻胶的区域分开的轮廓线，并且，在每种情况下，对每个所述能量剂量，将结果存储为以所述能量剂量作为参数的二维轮廓线数据记录，

组合所述轮廓线数据记录以形成以所述能量剂量或所述能量剂量的函数作为第三维度的三维多轮廓线数据记录，

基于所述多轮廓线数据记录中的轮廓线从零到非零的值的转变，产生依赖于所述掩膜板上的位置的所述能量剂量或所述能量剂量的函数的三维第一形貌，

并且，所述形貌和/或穿过所述形貌的截面被输出和/或存储到形貌数据记录中，并/或被自动评价。

2.如权利要求1中所述的方法，其特征在于：通过模拟成像系统产生所述空间图像，所述模拟成像系统模拟光刻扫描器中所述掩膜板到光刻胶层上的成像。

3.如权利要求1中所述的方法，其特征在于：通过空间图像模拟算法产生所述空间图像。

4.如前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于：产生不同焦点设置上的空间图像，并将其组合来在所述空间图像数据记录中形成三维空间图像。

5.如前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于：在对从所述模拟获得的每个所述数据记录模拟所述光刻曝光之后，通过执行所述预定高度处的、平行于所述晶片表面的至少一个截面确定所述轮廓线。

6.如前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于：在模拟所述光刻曝光之后，在所述预定高度处平行于所述晶片表面切出具有来自从所述光刻曝光的所述模拟获得的数据记录的预定厚度的层，并且通过平均整个所述层的厚度来确定所述轮廓线。

7.如权利要求1至3中的任一项所述的方法，其特征在于：在对每个所述能量剂量模拟的所述光刻曝光期间，所述空间图像数据记录被执行与高斯函数的二维卷积，以及将阈值函数施加到所述结果，当存在光刻胶时，所述阈值函数产生非零值，否则产生零，并且所述结果在每种情况下都被存储为轮廓线数据记录中的轮廓线。

8.如前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于：在另外的焦点设置上的另外的空间图像被记录并存储为另外的空间图像数据记录，且所述的另外的空间图像数据记录被转移到所述算法，所述算法产生另外的轮廓线数据记录、多轮廓线数据记录以及后续的另外的形貌，它们被存储在另外的形貌数据记录中和/或与所述第一形貌一起被评价和/或被整体或以截面输出。

9.如前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于：基于所述形貌确定枢轴点，对于所述枢轴点，在改变聚焦的情况下，所述轮廓线的位置不发生明显改变。

10.如前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于：每个形貌被归一化到穿过所述掩膜板的光透射区域的曝光。

11.如前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于：当产生每个空间图像数据记录时，考虑作为矢量效应的结果的对比度损失。

12.如前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于：约所述光刻胶层的原始厚度的10％被预定为从所述晶片表面测得的高度。

13.如前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于：对所述焦点设置考虑连续利用至少两个掩膜板曝光所述晶片，对两个掩膜板都产生空间图像数据，并将所述空间图像数据逐像素地添加到所述第一空间图像数据记录。