[发明专利]嘧啶系化合物的制造方法

权利要求书

1.一种制造式(III)所表示的化合物、式(IV)所表示的化合物或它们的混合物的方法，使式(I)所表示的化合物与式(II)所表示的化合物在吡啶类化合物的存在下进行反应，

式中，R¹和R²各自为甲基、甲氧基或乙氧基、R¹与R²可以彼此相同也可以不同，

式中，X¹和X²各自为氯原子或-OCCl₃，X¹与X²可以彼此相同也可以不同，

式中，R¹和R²如上所述，

式中，R¹和R²如上所述。

2.一种制造式(VI)所表示的化合物的方法，使由权利要求1所述的方法制造的式(III)的化合物、式(IV)的化合物或它们的混合物与式(V)所表示的化合物进行反应，

式中，Y是烷基、芳基烷基或卤素，p是0～3的整数，当p为2以上时，Y可以彼此相同也可以不同，

式中，R¹、R²、Y和p如上所述。

3.一种制造式(VIII)所表示的化合物的方法，使由权利要求1所述的方法制造的式(III)的化合物、式(IV)的化合物或它们的混合物与式(VII)所表示的化合物进行反应，

式中，R³是-CF₃或-CON(R⁵)R⁶，R⁴是卤素、烷基、卤代烷基、烷氧基、卤代烷氧基、烷硫基、卤代烷硫基、烷氧基烷基、卤代烷氧基烷基或-N(R⁷)R⁸，R⁵和R⁶各自为氢原子、烷基、卤代烷基、链烯基、炔基、烷氧基、卤代烷氧基、烷氧基烷基、卤代烷氧基烷基、环烷基、卤代环烷基、烷氧基羰基、卤代烷氧基羰基、苯基或卤代苯基，在R⁵或R⁶的一者为氢原子的情况下，另一者为氢原子以外的基团，R⁵和R⁶可以与相邻的氮原子一起形成杂环，R⁵与R⁶可以彼此相同也可以不同，R⁷和R⁸各自为氢原子或烷基，R⁷与R⁸可以彼此相同也可以不同，n是0～2的整数，当n为2时，R⁴可以彼此相同也可以不同，m是0或1，

式中，R¹、R²、R³、R⁴、n和m如上所述。