[发明专利]用于制备高折射率材料的硫改性硅烷有效

专利信息
申请号: 200980114332.X 申请日: 2009-05-12
公开(公告)号: CN102015837A 公开(公告)日: 2011-04-13
发明(设计)人: J·彼特奥;H·摩瑟 申请(专利权)人: 埃西勒国际通用光学公司
主分类号: C08G75/04 分类号: C08G75/04;C08L81/02
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 陈季壮
地址: 法国沙*** 国省代码: 法国;FR
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摘要:
搜索关键词: 用于 制备 折射率 材料 改性 硅烷
【权利要求书】:

1.一种用于合成聚硫化物聚硅烷(III)的方法,包括以下步骤:

(i)将以下物质混合获得溶液:

1)由以下通式表示的聚硫醇(I)

(HS)-R-(SH)n    (I)

其中

-n为1-5的整数,其中包括1和5;和

-R选自以下基团:

亚芳基、

亚杂芳基、

和直链或支链(C2-C30)亚烷基,其中1-10个碳原子可被选自(CO)、(SO2)、NR4、O、S和P的基团替代,其中R4表示氢原子或直链或支链(C1-C6)烷基;和/或亚烷基各自可任选被选自羟基、羧基、芳基和杂芳基的基团取代;和

2)由以下通式表示的烯基硅烷(II)

(R1)mX(3-m)Si-R2-R3   (II)

其中:

-R1为直链或支链(C1-C10)烷基基团,其任选包含1-5个选自NR6、O、S或P的杂原子,其中R6表示氢原子或直链或支链(C1-C6)烷基;和/或烷基基团各自可任选被选自羟基、羧基和(C1-C6)烷氧基的基团取代;

-X为选自卤素原子和-OR5的基团,其中R5表示选自(C3-C10)环烷基、(C3-C10)杂环烷基、以及直链或支链(C1-C6)烷基的基团,其可包含1-3个选自NR7、O或S的杂原子,其中R7表示氢原子或直链或支链(C1-C6)烷基;和/或烷基各自可被选自直链或支链(C1-C6)烷氧基、羧基和羟基的基团取代;

-m为0-2的整数,其中包括0和2;

-R2为不存在或由选自直链或支链(C2-C10)亚烷基的基团表示,其中1-4个碳原子可被选自(CO)、NR8、O或S的基团替代,其中R8表示氢原子或直链或支链(C1-C6)烷基;和/或亚烷基各自可任选被选自直链或者支链(C1-C6)烷氧基、羧基和羟基的基团取代;

-R3表示选自直链或支链(C2-C10)烯基、(C4-C10)环烯基和(C4-C10)杂环烯基的基团,这些基团各自可任选被选自直链或支链(C1-C6)烷基、直链或支链(C1-C6)烷氧基、直链或支链(C1-C6)硫代烷氧基、羧基、硫醇和羟基的基团取代;和

(ii)将溶液暴露于UV辐射或热,优选通过UV辐射进行硫醇-烯加成,从而生产聚硫化物聚硅烷(III)。

2.根据权利要求1的方法,其中所述聚硫醇(I)包含2-4个硫醇基。

3.根据权利要求1或2的方法,其中在聚硫醇(I)中,R包含1-20个碳原子,以及当杂原子存在于R基团中时,其为硫原子。

4.根据权利要求1-3中任一项的方法,其中在聚硫醇(I)中,S原子对C原子比(nS/nC)为至少1/4,优选至少1/2,更优选至少7/10。

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