[发明专利]膜、背光显示器、及其制备方法

权利要求书

1.一种膜，包括：

具有多个棱柱结构的表面，其中每个棱柱结构在w方向上的横向调制是所述棱柱结构平均间距的±2％～±20％；

其中所述多个棱柱结构在w方向上棱柱峰高度有变化，所述变化是不连续的和/或连续的。

2.权利要求1中所述的膜，其中最高的棱柱峰高度是周期性的，其在w方向测量的间隔为大于或等于平均间距的五倍，其中所述平均间距在w方向的100mm样品长度上测定，其中所述间隔的w方向垂直于l方向。

3.权利要求2中所述的膜，其中对于任何从w方向取得的轮廓，大部分棱柱峰比最高的棱柱峰高度低0.5微米以上。

4.权利要求1-3中任一项所述的膜，其中存在在w方向上所确定的一簇峰，其中所述簇包括小于或等于3个峰，并且每个簇被大于或等于5个峰所隔开，并且其中所述簇是高度为最高棱柱峰高度的±0.25微米以内的一组相邻峰。

5.权利要求1-4中任一项所述的膜，其中所述调制是所述平均间距的±2％～±15％。

6.权利要求5中所述的膜，其中所述调制是所述平均间距的±5％～±10％。

7.权利要求1-6中任一项所述的膜，其中所述棱柱结构具有l方向的高度调制。

8.权利要求7中所述的膜，其中所述高度调制是随机的。

9.权利要求1-8中任一项所述的膜，其中所述横向调制包括可变棱柱间隔。

10.权利要求1-9中任一项所述的膜，其中所述横向调制是随机的。

11.权利要求1-10中任一项所述的膜，其中所述变化是周期性的和正弦的。

12.一种背光显示器，包括光源和权利要求1-11中任一项所述的膜。

13.一种制备膜的方法，包括：

在表面形成多个棱柱结构，其中所述多个棱柱结构具有w方向的横向调制，其为所述棱柱平均间距的±2％～±20％，并且其中所述多个棱柱结构在w方向上棱柱峰高度有变化，所述变化是不连续的和/或连续的。