[发明专利]投影透镜装置

权利要求书

1.一种带电粒子多子束系统，用于使用多个子束照射目标，该系统包括：

第一板，具有形成在其中的多个孔；

多个静电投影透镜系统，形成于各孔的位置处，使得各电子子束通过相应的投影透镜系统；

其中所述孔具有充分一致的布局和尺度，使得通过使用公共控制电压能够使所述子束聚焦到目标表面上。

2.如权利要求1所述的系统，其中所述投影透镜系统和公共聚焦电压包括所有用于将所述子束聚焦到所述表面上的聚焦器件。

3.如权利要求1或2所述的系统，其中所述投影透镜系统通过公共控制信号来控制，在不用校正单个电子子束的焦点或路径的情况下，将所述电子子束聚焦到所述表面上。

4.如前述权利要求中的任一项所述的系统，其中每个电子子束被所述投影透镜系统以焦距聚焦，并且在所述投影透镜系统形成处的所述孔的布局和尺度被控制在足以使得通过使用公共控制电压对所述电子子束的聚焦能够实现焦距一致性优于0.05％的公差内。

5.如前述权利要求中的任一项所述的系统，其中所述投影透镜系统被隔开额定间距，且每个电子子束被投影透镜系统聚焦，在所述目标的表面上形成斑点，并且其中所述孔的布局和尺度被控制在足以实现所述表面上的所述斑点空间分布的变化达到小于所述额定间距的0.2％的公差内。

6.如前述权利要求中的任一项所述的系统，其中所述孔基本为圆形且具有额定的直径，并且其中所述孔的直径落入所述额定直径的正负0.2％的公差内。

7.如前述权利要求中的任一项所述的系统，其中所述孔是使用蚀刻技术形成在至少一块板上的。

8.如前述权利要求中的任一项所述的系统，其中所述电子子束的路径没有互相交叉。

9.如前述权利要求中的任一项所述的系统，其中所有所述电子子束的路径没有公共交叉点。

10.如前述权利要求中的任一项所述的系统，其中所述子束通过用于发射电子束的辐射源、用于使所述电子束平行的准直系统和用于将所述电子束分裂成多个子束的电子束分裂器生成。

11.如权利要求10所述的系统，其中所述电子子束的路径在所述电子束分裂器和所述第一板之间基本彼此平行。

12.如权利要求10所述的系统，其中所述电子子束的路径在所述电子束分裂器和所述目标表面之间基本彼此平行。

13.如权利要求10至12中的任一项所述的系统，其中所述电子束分裂器包括孔径板，该孔径板上形成有多个孔。

14.如前述权利要求中的任一项所述的系统，还包括第二板，该第二板中形成有与在第一板上形成的所述孔相对应的多个孔，并且其中所述静电投影透镜系统在所述第一板和所述第二板上对应孔的位置处形成。

15.如前述权利要求中的任一项所述的系统，还包括调制装置，该调制装置包括偏转器阵列和子束停止阵列，其中每个偏转器适于将子束偏转远离其路径，所述子束停止阵列用于停止被所述偏转器偏转的子束。

16.如权利要求15所述的系统，其中每个偏转器可单独地被处理。

17.一种带电粒子多子束系统，其用于照射目标，该系统包括：

用于生成多个电子子束的装置；

至少一个板，具有形成在其上的多个孔；

多个静电投影透镜系统，形成于所述孔的位置处，使得每个电子子束通过相应的投影透镜系统；

其中所述静电投影透镜系统是由公共电信号控制的，将所述电子子束聚焦到所述表面上，不用校正单个电子子束的聚焦点或路径。

18.如权利要求17所述的系统，其中每个电子子束被投影透镜系统以焦距聚焦，并且在所述投影透镜系统形成处的所述孔的布局和尺度被控制在足以使得通过使用公共控制电压对所述电子子束的聚焦能够实现焦距一致性优于0.05％的公差之内。

19.如权利要求17或18所述的系统，其中所述投影透镜系统以额定间距隔开，且每个电子子束被投影透镜系统聚焦，以在所述目标表面上形成斑点，并且其中所述孔的布局和尺度被控制在足以使所述表面上的斑点空间分布的变化小于所述额定间距0.2％的公差内。