[发明专利]高纯度铜以及通过电解制造高纯度铜的方法有效
| 申请号： | 200980115015.X | 申请日： | 2009-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN102016088A | 公开（公告）日： | 2011-04-13 |
| 发明（设计）人： | 新藤裕一朗;岛本晋;福岛笃志 | 申请（专利权）人： | JX日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C22C9/00 | 分类号： | C22C9/00;C25C1/12;C25C7/06;C22C9/01;C22C9/02;C22C9/05;C22C9/10 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 纯度 以及 通过 电解 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种高纯度铜，纯度为6N以上，其特征在于，P、S、O和C各成分的含量分别为1ppm以下，该铜中含有的粒径0.5μm以上且20μm以下的非金属夹杂物为10000个/g以下。
2.如权利要求1所述的高纯度铜，其特征在于，所述铜中含有的粒径0.5μm以上且20μm以下的包含碳或碳化物的夹杂物为5000个/g以下。
3.一种通过电解制造高纯度铜的方法，其特征在于，在阴极和阳极之间设置隔壁，将从阳极侧的电解槽中取出的电解液或追加电解液供给到阴极侧的电解槽中时，在要将电解液供给到阴极侧的电解槽中之前通过活性炭过滤器，然后将电解液供给到阴极侧的电解槽中进行电解。
4.如权利要求3所述的通过电解制造高纯度铜的方法，其特征在于，通过电解，使纯度为6N以上，P、S、O和C各成分的含量为1ppm以下，粒径0.5μm以上且20μm以下的非金属夹杂物为10000个/g以下。
5.如权利要求3所述的通过电解制造高纯度铜的方法，其特征在于，使铜中含有的粒径0.5μm以上且20μm以下的包含碳或碳化物的夹杂物为5000个/g以下。
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