[发明专利]厚膜回收方法无效
申请号: | 200980115592.9 | 申请日: | 2009-05-08 |
公开(公告)号: | CN102016725A | 公开(公告)日: | 2011-04-13 |
发明(设计)人: | 村上守;林勲 | 申请(专利权)人: | E.I.内穆尔杜邦公司 |
主分类号: | G03F7/34 | 分类号: | G03F7/34;G03F7/42 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 朱黎明 |
地址: | 美国特*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 回收 方法 | ||
发明领域
本发明涉及由用过的转印片材来回收厚膜组合物的方法。
发明背景
为了形成厚膜电路,利用在支撑件上具有厚膜的转印片材。US7,052,824公开了在基板上形成具有电功能性质的图案的方法。转印片材示于图1(a)中。其包括至少一层干燥的可剥离厚膜组合物101和支撑件102。任选的覆盖片103、具有粘性表面的可光致硬化层104与基体105的组合件示于图1(b)中。利用光化辐射通过图案化光掩模106的以成像方式暴露的可光致硬化层104导致暴露区域上的解粘,所述暴露区域成为光致硬化区域107。暴露之后,可光致硬化层104上的覆盖片103(如果存在的话)被移除。图1(d)示出了被层压的转印片材,其中厚膜侧向下层压到成图像的可光致硬化层104和107上。厚膜组合物101将基本上粘附到可光致硬化层104的未暴露粘性区域上。在剥离了具有在其上形成的反作用电路图案的转印片材之后,制备出其中厚膜组合物粘附到图1(e)中所示的粘性区域上的厚膜电路图案。可重复以上方法,即,可光致硬化的层、成像、施加转印片材至少一次直至达到所需的层数。所述制品随后将经历焙烧步骤。
剥离后的支撑件具有以所需电路图案的倒像保留下来的厚膜组合物,其可被收集并再使用。US 7,052,824公开了由用过的转印片材来回收厚膜组合物的方法。回收厚膜组合物的US 7,052,824方法包括以下连续步骤:1)使第一支撑件上的具有剩余厚膜的用过的转印薄膜经过溶剂浴以形成溶剂与厚膜组合物的溶液,2)调节溶液的流变学,3)将溶液施涂到第二支撑件上以用于形成新的转印片材。图2示出了以上常规回收系统在其为卷对卷系统的情况下的一个实施方案,其中所述转印片材为连续卷材。用过的转印片材卷材201穿过双滚轴系统202,其容许转印卷受控递送到包含溶剂浴的器皿203中,所述溶剂浴将溶解厚膜组合物中的有机物,其中所述厚膜组合物与溶剂形成溶液。然而,该系统存在缺陷。其需要大器皿中的大量溶剂。期望提供一种利用少量溶剂从用过的转印片材来回收厚膜组合物的方法。
发明概述:
本发明为由用过的转印片材来回收厚膜的方法,所述转印片材由支撑膜和厚膜组合物构成,所述方法包括以下步骤:
(a)将至少包括溶剂的移除剂施涂到厚膜上;
(b)用剥离器将移除剂和厚膜与支撑件剥离;以及
(c)将用剥离器剥离开的移除剂和厚膜收集到器皿中。
所述方法还优选包括以下步骤:调节器皿中的移除剂与厚膜组合物溶液的流变学以使溶液成为可浇铸的,并且将可浇铸的溶液施用到第二支撑件上以制备完整的转印片材。所述方法还优选包括在施用移除剂之后用辊将转印片材向下旋转超过90度的步骤。上述移除剂优选为溶剂形式或为厚膜组合物溶液。上述剥离器工具可优选选自刮刀、擦拭物、刮器、真空管、吹风机或它们的组合。上述方法优选利用卷对卷系统。
本发明用于减少溶剂或溶液量,所述溶剂或溶液用于在回收利用转印片材时移除转印片材上的厚膜组合物。
附图简述:
图1为描述常规方法中回收工艺的一个实施方案的原理图。
图2为描述常规方法中回收工艺的一个实施方案的原理图。
图3为描述本发明回收工艺的一个实施方案的原理图。
图4为描述本发明回收工艺的另一个实施方案的原理图。
图5为描述本发明的图4中回收工艺的卷对卷系统的一个实施方案的原理图。
图6为描述本发明剥离器的原理图。
发明详述
利用如下的图对本发明进行解释:
本发明的回收系统的一个实施方案示于图3中。作为厚膜保留下来的所用过的转印片材301用得自移除剂容器302的移除剂处理。移除剂至少包括溶剂。除了溶剂之外,移除剂还优选包括厚膜组合物的全部或一部分。为了便于在后工序中调节组分,移除剂可包含厚膜组合物中的所有组分。
用剥离器303将移除剂和厚膜组合物剥离。将移除剂和剥离开的厚膜组合物溶液收集到器皿304中。所述方法还可优选地包括以下步骤:调节器皿中的移除剂与厚膜组合物溶液的流变学以使其成为可浇铸的;将可浇铸的溶液作为厚膜组合物施用到第二支撑件上以制备全新的转印片材。
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