[发明专利]成像光学系统无效
申请号: | 200980115665.4 | 申请日: | 2009-06-10 |
公开(公告)号: | CN102016677A | 公开(公告)日: | 2011-04-13 |
发明(设计)人: | 德弘节夫;原明子 | 申请(专利权)人: | 柯尼卡美能达精密光学株式会社 |
主分类号: | G02B7/02 | 分类号: | G02B7/02;G02B1/10;G02B5/28 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 贾成功 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 成像 光学系统 | ||
1.一种成像光学系统,其特征在于,其为一边介由间隔件一边将多个成像用透镜层叠了的成像光学系统,所述成像用透镜部在玻璃基板上形成了固化性树脂制的透镜部,
在相互相邻的所述成像用透镜间所述透镜部彼此存在呈凹状的部位,在配置于该部位的所述间隔件上形成有IR阻断涂层。
2.如权利要求1所述的成像光学系统,其特征在于,
对所述间隔件的表背两面分别形成有所述IR阻断涂层,
形成于所述间隔件的一侧的面的IR阻断涂层的总膜厚r1与形成于所述间隔件的另一侧的面的IR阻断涂层的总膜厚r2的总膜厚比率r满足式(1)的条件:
0.9≤r(=r1/r2)≤1.1...(1)。
3.如权利要求1或2所述的成像光学系统,其特征在于,
对所述间隔件的表背两面分别形成有所述IR阻断涂层,
所述IR阻断涂层为将由低折射率材料构成的低折射率层A和由高折射率材料构成的高折射率层B交替层叠了多层的交替多层膜,
形成于所述间隔件的一侧的面的IR阻断涂层的低折射率层A1的总膜厚r(A1)、与形成于所述间隔件的另一侧的面的IR阻断涂层的低折射率层A2的总膜厚r(A2)的总膜厚比率r(A)满足式(2)的条件,并且,形成于所述间隔件的一侧的面的IR阻断涂层的高折射率层B1的总膜厚r(B1)与形成于所述间隔件的另一侧的面的IR阻断涂层的高折射率层B2的总膜厚r(B2)的总膜厚比率r(B)满足式(3)的条件:
0.9≤r(A)(=r(A1)/r(A2))≤1.1...(2)
0.9≤r(B)(=r(B1)/r(B2))≤1.1...(3)。
4.如权利要求1~3中的任一项所述的成像光学系统,其特征在于,
所述固化性树脂为光固化性树脂,
所述光固化性树脂为丙烯酸类树脂或环氧树脂。
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