[发明专利]成像光学系统无效

专利信息
申请号: 200980115665.4 申请日: 2009-06-10
公开(公告)号: CN102016677A 公开(公告)日: 2011-04-13
发明(设计)人: 德弘节夫;原明子 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达精密光学株式会社
主分类号: G02B7/02 分类号: G02B7/02;G02B1/10;G02B5/28
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 贾成功
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 成像 光学系统
【权利要求书】:

1.一种成像光学系统,其特征在于,其为一边介由间隔件一边将多个成像用透镜层叠了的成像光学系统,所述成像用透镜部在玻璃基板上形成了固化性树脂制的透镜部,

在相互相邻的所述成像用透镜间所述透镜部彼此存在呈凹状的部位,在配置于该部位的所述间隔件上形成有IR阻断涂层。

2.如权利要求1所述的成像光学系统,其特征在于,

对所述间隔件的表背两面分别形成有所述IR阻断涂层,

形成于所述间隔件的一侧的面的IR阻断涂层的总膜厚r1与形成于所述间隔件的另一侧的面的IR阻断涂层的总膜厚r2的总膜厚比率r满足式(1)的条件:

0.9≤r(=r1/r2)≤1.1...(1)。

3.如权利要求1或2所述的成像光学系统,其特征在于,

对所述间隔件的表背两面分别形成有所述IR阻断涂层,

所述IR阻断涂层为将由低折射率材料构成的低折射率层A和由高折射率材料构成的高折射率层B交替层叠了多层的交替多层膜,

形成于所述间隔件的一侧的面的IR阻断涂层的低折射率层A1的总膜厚r(A1)、与形成于所述间隔件的另一侧的面的IR阻断涂层的低折射率层A2的总膜厚r(A2)的总膜厚比率r(A)满足式(2)的条件,并且,形成于所述间隔件的一侧的面的IR阻断涂层的高折射率层B1的总膜厚r(B1)与形成于所述间隔件的另一侧的面的IR阻断涂层的高折射率层B2的总膜厚r(B2)的总膜厚比率r(B)满足式(3)的条件:

0.9≤r(A)(=r(A1)/r(A2))≤1.1...(2)

0.9≤r(B)(=r(B1)/r(B2))≤1.1...(3)。

4.如权利要求1~3中的任一项所述的成像光学系统,其特征在于,

所述固化性树脂为光固化性树脂,

所述光固化性树脂为丙烯酸类树脂或环氧树脂。

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