[发明专利]使用RF功率传递的时间分解调频方案以用于脉冲等离子体工艺的方法及设备

权利要求书

1.一种设备，包含：

一具有调频的第一RF电源；

一耦接至该第一RF电源的第一匹配网络；及

一用于读取反射回该第一RF电源的反射RF功率的第一共同感应器，该共同感应器经耦接至该第一RF电源及该第一匹配网络。

2.如权利要求1所述的设备，进一步包含：

一具有一天线组件及一阴极基座的工艺腔室，该天线组件安置于靠近该工艺腔室的一盖子处，该阴极基座用于支撑一待处理的基板，其中该第一RF电源经耦接至该天线组件；及

一具有调频且耦接至该阴极基座的第二RF电源、一耦接至该第二RF电源的第二匹配网络，及一用于读取反射回该第二RF电源的反射RF功率的第二共同感应器，该第二共同感应器耦接至该第二RF电源及该第二匹配网络。

3.如权利要求1至2中的任何一者所述的设备，进一步包含：

一控制器，用于基于自该第一共同感应器的读数来调谐该第一RF电源及该第一匹配网络，若存在有该第二匹配网络、该第二RF电源、及该第二共同感应器，则用于基于自该第二共同感应器的读数调谐该第二RF电源和该第二匹配网络。

4.如权利要求1至3中的任何一者所述的设备，其中该第一匹配网络嵌埋在该第一RF电源内，且其中该控制器基于由该第一共同感应器测量该第一RF电源的输出所提供的共享读数来控制该第一匹配网络的调谐以及一具有该第一RF电源的一RF周期的频率二者；及

若存在有该第二匹配网络、该第二RF电源、和该第二共同感应器，其中该第二匹配网络嵌埋在该第二RF电源内，且其中该控制器基于由该第二共同感应器测量该第二RF电源的输出所提供的共享读数来控制该第二匹配网络的调谐及一具有该第二RF电源的一RF周期的频率二者。

5.如权利要求2所述的设备，进一步包含：

一链接，用于耦接该第一RF电源与该第二RF电源，以促进一RF电源的操作与另一RF电源同步，其中该第一RF电源与该第二RF电源经组态而以完全同步的状态或以一所需相差的状态而操作。

6.如权利要求1至5中的任何一者所述的设备，其中该第一RF电源与若存在有的该第二RF电源可操作于一脉冲模式下，该脉冲模式具有一位于约100Hz与约100kHz之间的脉冲频率。

7.如权利要求1至5所述的任何一者所述的设备，其中该第一RF电源与若存在有的该第二RF电源可在一工作周期下操作，该工作周期位于约10％与约90％之间。

8.一种使用一源RF电源及一偏压RF电源对一操作一等离子体工艺的系统进行调谐的方法，每一电源能够进行调频且分别经由一源匹配网络及一偏压匹配网络耦接至一工艺腔室，该方法包含下列步骤：

使用该源RF电源及该偏压RF电源在一工艺腔室中激发一等离子体，每一电源设定于一连续波模式或一固定频率模式，该源匹配网络及该偏压匹配网络各自设定为一自动调谐模式；

在这些匹配网络调节以减小来自该源及该偏压RF发生器二者的反射功率之后，将该源匹配网络更改为锁定模式，同时将该偏压匹配网络保持在自动模式；

开启该源RF电源的调频，同时将该偏压发生器的调频保持关闭状态；

开启该源RF电源及/或该偏压RF电源的一脉冲模式；及

将该偏压RF电源置于调频模式。

9.如权利要求8所述的方法，进一步包含下列步骤：

在将该偏压RF电源置于调频模式之后，使该源匹配网络返回至自动模式。

10.如权利要求8所述的方法，其中该源RF电源及该偏压RF电源处于一主/从配置，以提供同步或嵌埋的同步脉冲，或其中该源RF电源及该偏压RF电源各处于一主模式，以使得该源RF电源操作于脉冲模式，且该偏压RF电源操作于连续波模式，或该偏压RF电源操作于脉冲模式，而该源RF电源操作于连续波模式。