[发明专利]制备图案化的双折射产品的方法

权利要求书

1.一种制备图案化的双折射产品的方法，依次包括至少步骤(I)～(III)：

(I)提供具有含有聚合物的光学各向异性层的双折射图案构造体，所述聚合物具有未反应的反应性基团；

(II)对所述双折射图案构造体的区域进行加热；和

(III)使所述双折射图案构造体经受使所述光学各向异性层中的至少一部分所述未反应的反应性基团反应的过程。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述光学各向异性层具有在高于20℃的温度区域中的延迟消失温度，其中，所述延迟消失温度是面内延迟为20℃下的面内延迟的30％或更少的温度，和在步骤(II)中加热的温度等于或高于所述延迟消失温度。

3.如权利要求1或2所述的方法，其中通过与加热体接触进行所述加热。

4.如权利要求1-3中任一项所述的方法，其中在步骤(III)中的过程是曝光。

5.如权利要求1-3中任一项所述的方法，其中在步骤(III)中的过程是加热处理。

6.如权利要求5所述的方法，其中所述光学各向异性层具有在高于20℃的温度区域中的延迟消失温度，其中，所述延迟消失温度是面内延迟为20℃下的面内延迟的30％或更少的温度，和在步骤(III)中的加热处理在低于所述延迟消失温度的温度下进行。

7.如权利要求1-6中任一项所述的方法，其中在步骤(III)之后进行所述双折射图案构造体的最终热处理的步骤。

8.如权利要求1-7中任一项所述的方法，在步骤(I)中的所述光学各向异性层是通过以下步骤形成的层：将含有具有至少一种反应性基团的液晶性化合物的溶液涂布并干燥，由此形成液晶相，然后通过加热或用电离辐射照射以聚合和固定所述化合物。

9.如权利要求8所述的方法，其中所述液晶性化合物具有聚合条件不同的两种以上的反应性基团。

10.如权利要求8所述的方法，其中所述液晶性化合物至少具有自由基反应性基团和阳离子反应性基团。

11.如权利要求10所述的方法，其中所述自由基反应性基团是丙烯酸基团和/或甲基丙烯酸基团，所述阳离子反应性基团是乙烯基醚基团、氧杂环丁烷基团和/或环氧基团。

12.如权利要求10或11所述的方法，其中在步骤(I)中的双折射图案构造体包含：

光学各向异性层，其通过如下方法形成：将含有具有至少一种反应性基团的液晶性化合物和作为光反应性聚合引发剂的仅自由基光聚合引发剂的溶液涂布，由此形成液晶相，然后通过加热或用电离辐射照射以聚合和固定所述化合物；和

功能层，通过在所述光学各向异性层上直接涂布含有阳离子光聚合引发剂的溶液而提供。

13.如权利要求10或11所述的方法，其中在步骤(I)中的双折射图案构造体包含：

光学各向异性层，其通过如下方法形成：将含有具有至少一种反应性基团的液晶性化合物和作为光反应性聚合引发剂的仅阳离子光聚合引发剂的溶液涂布，由此形成液晶相，然后通过加热或用电离辐射照射以聚合和固定所述化合物；和

功能层，通过在所述光学各向异性层上直接涂布含有自由基光聚合引发剂的溶液而提供。

14.如权利要求1-7中任一项所述的方法，其中，所述光学各向异性层是拉伸过的膜。

15.如权利要求1-14中任一项所述的方法，其中步骤(I)通过如下方法进行：通过在转移的目标材料上转移包含光学各向异性层的转移材料以制备所述双折射图案构造体。

16.如权利要求15所述的方法，其中，所述转移材料依次包含临时支持体、光学各向异性层和用于转移的粘合层。

17.一种通过权利要求1-16中任一项所述的方法可得到的用作防止伪造的手段的产品。

18.一种通过权利要求1-16中任一项所述方法可得到的用作光学元件的产品。