[发明专利]非线性光学方法和结构无效

专利信息
申请号: 200980118865.5 申请日: 2009-03-09
公开(公告)号: CN102036917A 公开(公告)日: 2011-04-27
发明(设计)人: 西奥多·阿列凯尔 申请(专利权)人: 深光子学公司
主分类号: C01F17/00 分类号: C01F17/00;G02F1/35
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 顾晋伟;吴鹏章
地址: 美国华*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 非线性 光学 方法 结构
【权利要求书】:

1.一种通式包括YiLajAlkB16O48的组合物,其中2.8≤i≤3.2,0.8≤j≤1.2,i和j之和为约4并且k为约12。

2.根据权利要求1所述的组合物,其中2.96≤i≤3.08。

3.根据权利要求2所述的组合物,其中i为约3。

4.根据权利要求1所述的组合物,其中0.92≤j≤1.04。

5.根据权利要求4所述的组合物,其中j为约1。

6.根据权利要求1所述的组合物,其中所述组合物中的22-30、40-48和72-80号元素的浓度小于1000ppm。

7.根据权利要求1所述的组合物,其中所述组合物中的58-70号元素的浓度小于1000ppm。

8.根据权利要求1所述的组合物,其中所述组合物为非线性晶体,所述非线性晶体的特征在于250nm处的光学透射率大于0.7。

9.一种用于生长组合物的一种或更多种非线性晶体的方法,所述方法包括:

提供所述组合物的构成组分组,其包括钇源和铝源;

将所述组合物的构成组分组与镧源和硼源混合以形成组分混合物;

将所述组分混合物加热至预定温度,由此形成所得熔体;

冷却所述所得熔体;和

形成所述组合物的一种或更多种非线性晶体作为所述所得熔体的沉淀物,其中所述一种或更多种非线性晶体包括YiLajAlkB16O48,其中2.8≤i≤3.2,0.8≤j≤1.2,i和j之和为约4并且k为约12。

10.根据权利要求9所述的方法,其中所述构成组分组的特征在于预定量的溶质和预定量的溶剂,其中镧对钇的摩尔比大于1.5∶1,并且其中所述预定量的溶质对所述预定量的溶剂的摩尔比为1∶1~1∶5。

11.根据权利要求9所述的方法,还包括将所述所得熔体在所述预定温度下保持预定时间。

12.根据权利要求9所述的方法,其中所述预定温度为约1500K。

13.根据权利要求9所述的方法,其中以低于20K/小时的温度速率来进行所述所得熔体的冷却。

14.根据权利要求9所述的方法,其中所述组合物的构成组分组包括钇源和铝源。

15.根据权利要求14所述的方法,其中所述钇源包括氧化钇,所述铝源包括氧化铝。

16.根据权利要求9所述的方法,其中所述镧源包括氧化镧,所述硼源包括氧化硼和硼酸中的至少其一。

17.一种非线性光学晶体,所述非线性光学晶体具有化学式YiLajAlkB16O48,其中2.8≤i≤3.2,0.8≤j≤1.2,i和j之和为约4并且k为约12。

18.根据权利要求17所述的非线性光学晶体,其中所述非线性光学晶体与空间群R32的三角晶系相关。

19.根据权利要求17所述的非线性光学晶体,其中所述非线性光学晶体的特征在于体积大于约1.0mm3

20.根据权利要求17所述的非线性光学晶体,其中22-30、40-48、58-70和72-80号元素的浓度小于约1000ppm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深光子学公司,未经深光子学公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200980118865.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top