[发明专利]防反射膜及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及具有特定的表面形状和物性的防反射膜，具体而言，涉及防止光的反射、并且光的透射得到了改善的防反射膜，更具体而言，涉及可对显示器等赋予良好的可视性的防反射膜、及其制造方法。

背景技术

液晶显示器(LCD)、等离子显示器(PDP)等平板显示器(以下，简称为“FPD”)等为了确保其可视性而必须安装防反射膜。作为该防反射膜，一直使用的有：(1)由通常被称为干法的方法得到的防反射膜，即，通过气相工艺制作多层介质膜，利用光学干涉效果实现低反射率的防反射膜；(2)由通常被称为湿法的方法得到的防反射膜，即，在基板薄膜上包覆有低折射率材料的防反射膜等；另外，作为在原理上与上述方法完全不同的技术，还已知(3)通过对表面赋予微细结构，从而表现出低反射率的技术(专利文献1～专利文献10)。

对于上述(3)的通过赋予微细结构而提高防反射膜的性能的方法进行了多种研究，例如有以下方法等：将铝通过阳极氧化而形成阳极氧化被膜，并对该阳极氧化被膜进行蚀刻，将上述阳极氧化被膜的形成与蚀刻组合而制成模，并将其形状转印到防反射膜上(专利文献11～专利文献13)。

然而，对于这些防反射膜来说，不仅光的防反射性能不充分，尤其是光的透射性能也不充分，期待进一步的提高。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开昭50-070040号公报

专利文献2：日本特开平9-193332号公报

专利文献3：日本特开2003-162205号公报

专利文献4：日本特开2003-215314号公报

专利文献5：日本特开2003-240903号公报

专利文献6：日本特开2004-004515号公报

专利文献7：日本特开2004-059820号公报

专利文献8：日本特开2004-059822号公报

专利文献9：日本特开2005-010231号公报

专利文献10：日本特开2005-092099号公报

专利文献11：日本特开2003-043203号公报

专利文献12：日本特开2005-156695号公报

专利文献13：日本特开2007-086283号公报

发明内容

本发明是鉴于上述背景技术而实施的，其课题在于发现具有优异的光的防反射性能或优异的光的透射性能的防反射膜所要求的表面形状和物性，并提供具有该特定的表面形状和物性的防反射膜以及该防反射膜的制造方法。

本发明人为了解决上述课题而进行了深入研究，结果发现，在对铝实施轧制加工时所产生的加工应力、或基于加工自身的表面的不均匀性、制造过程中来自环境的影响，例如加工时混入的灰尘或污染物质所引起的表面的不均匀性等，会导致经利用该铝材料得到的模转印所获得的防反射膜的性能的降低。并且，为了解决该课题，发现通过预先对铝材料的表面进行精加工，可以获得具有所期望的性能的防反射膜，尤其是具有优异的透射性的防反射膜，由此完成了本发明。

即，本发明提供一种防反射膜，其特征在于，其通过以下方式获得：利用机械研磨、化学研磨和/或电解研磨对铝材料的表面进行加工后，通过阳极氧化与阳极氧化被膜的蚀刻的组合制作在该铝材料的表面具有锥形细孔的模，并将该模转印到防反射膜形成材料上，由此获得防反射膜；该获得的防反射膜表面具有平均高度100nm以上且1000nm以下的凸部或平均深度100nm以上且1000nm以下的凹部，该凸部或凹部至少在某一方向以平均周期50nm以上且400nm以下存在，且所述防反射膜的雾度为15％以下。

另外，本发明提供一种具有锥形细孔的模，其特征在于，其为具有上述防反射膜形成用的锥形细孔的模，其通过阳极氧化与蚀刻的组合而制作，所述阳极氧化在草酸浓度0.01M以上且0.5M以下、施加电压20V以上且120V以下、并且液温0℃以上且50℃以下进行，所述蚀刻在磷酸浓度1重量％以上且20重量％以下、液温30℃以上且90℃以下进行，并且1次的处理时间为1分钟以上且60分钟以下。

根据本发明，能够提供光的防反射性能、光的透射性能等优异的防反射膜。具体而言，例如能够提供FPD等的表面层等的防反射膜、透射性改良膜、表面保护膜等，特别是能够提供光的透射性能优异的防反射膜。

附图说明

图1所示为本发明的防反射膜的制造方法的一个例子的示意图。