[发明专利]多色打印头维护站有效

专利信息
申请号: 200980119855.3 申请日: 2009-05-26
公开(公告)号: CN102046386A 公开(公告)日: 2011-05-04
发明(设计)人: O·奥德 申请(专利权)人: 伊斯曼柯达公司
主分类号: B41J2/165 分类号: B41J2/165
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 赵华伟
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 多色 打印头 维护
【说明书】:

技术领域

发明涉及维护站,尤其是涉及用于包括喷射多于一种液体的喷射模块的打印头的维护站。

背景技术

在喷墨打印机中,行打印头包括多个喷射模块,每个喷射模块具有呈狭长矩形板状的喷嘴板,所述喷嘴板具有液体,例如,油墨,喷射喷嘴阵列。当打印头不工作时,喷嘴中的液体及位于喷嘴板上的液体可能会变干和/或招来污染物,例如灰尘或其他碎屑,这些污染物可能会导致喷嘴堵塞,甚至是喷嘴故障,造成打印质量下降。维护站是用来去除液体,以减少液体在喷射模块的喷嘴中及其附近变干或者被灰尘污染的可能性。

当以行打印头的构造布置喷射模块时,相邻喷射模块间的狭小间隙也可能会产生维护方面的问题。例如,擦拭喷射模块可能会导致在相邻喷射模块间的间隙中产生油墨积聚,这些油墨积聚可能会滴落到印刷介质上。油墨积聚也可能招致油墨污染物,例如,灰尘或其他碎屑,这些油墨污染物可能会导致喷嘴模块的喷嘴堵塞或降低打印质量。

EP 0799135A1公开了一种用于打印头的维护站,也称为清洁密封站。所述清洁密封站包括提供有密封腔的盖帽单元和用于在密封腔和打印头之间形成密封接触的装置。所述清洁密封站包括用于清洁每个打印头主表面的擦拭部件。相对于盖帽单元可滑动地安装所述擦拭部件使得在移动期间,所述擦拭部件沿着所述密封腔的前部移动。提供导向装置用于沿着垂直于所述盖帽单元的顶部表面的方向移动所述清洁密封站。所述密封腔包括通气阀和保证在所述密封腔从打印头处移开之前打开所述通气阀的装置。

通常,行打印头的喷射模块构造成从每个喷射模块中喷射出同一种液体。同样的,传统的维护站的擦拭单元构造成沿着行打印头的喷射模块的整个长度或宽度方向进行擦拭。

但是,需要有一种维护站能有效地从构造成在相同的打印操作中喷射多于一种液体的行打印头的喷射模块中去除液体,例如油墨,及污染物。

发明内容

根据本发明的一个方面,提供一种用于打印头的维护站设备,所述维护站设备包括并排设置在一行并且相对于打印介质运动的方向倾斜的多个喷射模块,所述多个喷射模块中的每个都包括一个喷嘴面,每个喷嘴面都包括构造成喷射第一液体的第一喷嘴阵列和构造成喷射第二液体的第二喷嘴阵列。所述维护站设备包括擦拭单元,所述擦拭单元包括第一擦拭器、第二擦拭器、和擦拭器移动机构。所述第一擦拭器与每个喷射模块中的第一喷嘴阵列相关联,所述第二擦拭器与每个喷射模块中的第二喷嘴阵列相关联。所述第一擦拭器设置在所述擦拭器移动机构上,使得所述第一擦拭器在位于每个喷射模块中的第一喷嘴阵列和第二喷嘴阵列之间的第一位置处与每个喷嘴面接触,并且移动经过每个喷射模块的第一喷嘴阵列而到达远离每个喷射模块第一喷嘴阵列的第二位置处。所述第二擦拭器设置在所述擦拭器移动机构上,使得所述第二擦拭器在位于每个喷射模块中的第一喷嘴阵列和第二喷嘴阵列之间的第三位置处与每个喷嘴面接触,并且移动经过每个喷射模块的第二喷嘴阵列而到达远离每个喷射模块中的第二喷嘴阵列的第四位置处。

所述维护站包括具有与所述多个喷射模块相对应的多个盖帽对的盖帽单元。每个盖帽对中的一个盖帽与相对应的喷射模块的第一喷嘴阵列相关联。所述盖帽对中的另一个盖帽与相对应的喷射模块的第二喷嘴阵列相关联。所述盖帽单元在第一擦拭器和第二擦拭器之间可移动到第一位置和第二位置,在所述第一位置处,所述多个盖帽对中的每一对与所述相对应的喷射模块中的所述第一喷嘴阵列和第二喷嘴阵列相接触,而在第二位置处,远离与所述相对应的喷射模块的所述第一喷嘴阵列和第二喷嘴阵列的接触。

根据本发明中的另一特性,提供了一种维护打印头的方法,所述打印头包括多个并排设置在一行并且相对于打印介质运动的方向倾斜的喷射模块,所述多个喷射模块中的每个包括一个喷嘴面,每个喷嘴面包括构造成喷射第一液体的第一喷嘴阵列和构造成喷射第二液体的第二喷嘴阵列。所述方法包括提供擦拭单元,所述擦拭单元包括第一擦拭器、第二擦拭器、和擦拭器移动机构,所述第一擦拭器与每个喷射模块中的第一喷嘴阵列相关联,所述第二擦拭器与每个喷射模块中的第二喷嘴阵列相关联,所述第一擦拭器设置在所述擦拭器移动机构上,所述第二擦拭器设置在所述擦拭器移动机构上;使得所述第一擦拭器在位于每个喷射模块的第一喷嘴阵列和第二喷嘴阵列之间的第一位置处与每个喷嘴面接触;移动经过每个喷射模块的第一喷嘴阵列而到达远离每个喷射模块第一喷嘴阵列的第二位置处;使得所述第二擦拭器在位于每个喷射模块的第一喷嘴阵列和第二喷嘴阵列之间的第三位置处与每个喷嘴面接触;移动经过每个喷射模块的第二喷嘴阵列而到达远离每个喷射模块中的第二喷嘴阵列的第四位置处。

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