[发明专利]光学零件制造用树脂组合物及其利用有效
申请号: | 200980119866.1 | 申请日: | 2009-05-15 |
公开(公告)号: | CN102046674A | 公开(公告)日: | 2011-05-04 |
发明(设计)人: | 中村正树;北村恭司;达野阳介 | 申请(专利权)人: | 欧姆龙株式会社 |
主分类号: | C08F220/26 | 分类号: | C08F220/26;C08F290/06;G02B1/11;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 贾静环 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 零件 制造 树脂 组合 及其 利用 | ||
技术领域
本发明涉及一种光学零件制造用树脂组合物及其利用。详细而言,本发明涉及一种将(甲基)丙烯酸当量及规定的重复单元的含有率调整在规定范围内的光学零件制造用树脂组合物及使用有该树脂组合物的光学零件以及图像显示装置。
背景技术
近年来在显示器行业,无论室内或室外,显示器的用途均日益扩大,例如应用于电视、个人电脑、手机、数码相机、车载导航、游戏机等。特别是移动设备用显示器的需求显著扩大,但是存在因阳光或灯光映入画面而导致可视性变差的问题,业内对抗反射技术的需求非常高。
针对所述问题,目前主要使用抗反射涂层(以下称为AR涂层(antireflection coating))。AR涂层是一种在显示器表面形成折射率不同的物质的层压膜,使各层的反射光相互干涉,由此防止光映入的方法。然而,AR涂层虽然能够降低反射率,但另一方面它具有波长依赖性,存在层压膜发生色纹的问题。
AR涂层的形成方法大致分为:使用蒸镀或溅射等干工序的方法和通过喷涂或辊涂等湿工序来形成AR涂层的方法。前一方法具有以下特征:由于主要使用无机系材料,所以可以形成高折射率层,虽然能够将反射率抑制为较低,但是由于是采用分批处理,因而生产性较差。另一方面,后一方法具有以下特征:由于主要使用有机系材料,所以难以实现高折射率,导致反射率提高,但是由于可以应用辊对辊(roll-to-roll)方式,因而生产性较优越。
如上所述,AR涂层虽然被应用于广泛的领域,但是从同时提高显示器可视性与生产性的观点出发,AR涂层并非是充分的方法。
为了应对这些问题,专利文献1中提出了具有高抗反射功能的微细凹凸结构体的技术。另外,专利文献2中提出了耐磨性、耐刮伤性优越的硬涂层剂。(专利文献)
专利文献1:日本国专利申请公开公报,“特开2005-331607号公报;2005年12月2日公开。
专利文献2:日本国专利申请公开公报,“特开2003-292828号公报;2003年10月15日公开。
发明内容
但是,专利文献1中记载的具有聚硅氧烷结构的高分子化合物虽然柔软性优越,但树脂强度及树脂延伸性较差,因而存在耐磨性、耐刮伤性低,在外力下不能保持微细凹凸结构的问题。
另外,专利文献2中记载的组合物的树脂强度较优越,所以在呈平面结构时,具有耐磨性、耐刮伤性,然而在呈微细凹凸结构时,树脂的柔软性、延伸性较差,因而与专利文献1中记载的高分子化合物同样,在外力下不能保持微细凹凸结构。
基于以上情况,业内期待开发出一种可替代以上方法的技术。
本发明是鉴于所述问题研究而成,本发明的目的在于提供一种将(甲基)丙烯酸当量及通式1所示的重复单元的含有率调整在规定范围内的光学零件制造用树脂组合物及使用有该组合物的光学零件以及图像显示装置。
本发明者针对能够使树脂固化物具有耐磨性、耐刮伤性和抗压性的树脂组合物进行了努力研究,结果发现:通过调整树脂组合物中所含的(甲基)丙烯酰基的比例以及规定的重复单元的比例,可以获得能够对适度兼备有硬度和柔软性的树脂固化物进行制备的树脂组合物,从而完成了本发明。
即,本发明的光学零件制造用树脂组合物的特征在于:含有一种以上的,分子中具有通式1所示的重复单元及一个以上(甲基)丙烯酰基的化合物,
[化1]
在式中,R1~R4分别独立表示氢原子或烷基,n表示1以上的整数,
并且满足以下的条件(a)及(b),
(a):在所述树脂组合物中,(甲基)丙烯酸当量为90以上500以下,且所述重复单元的含有率为1重量%以上88重量%以下;
(b):所述树脂组合物的(甲基)丙烯酸当量的下限值与所述树脂组合物中所含的所述重复单元的含有率的下限值为:在n为2以上时在纵轴上取以下式2所示的丙烯酸当量并且在横轴上取以下式3所示的所述重复单元的含有率而获得的曲线上的值,和把在纵轴及横轴上分别取季戊四醇四丙烯酸酯的丙烯酸当量及所述重复单元的含有率而获得的点、与将式2及式3中的R1~R4设为氢原子并将n=2代入式2及式3而获得的点进行连线而成的直线上的值,
丙烯酸当量=[{40+Mw(R1)+Mw(R2)+Mw(R3)+Mw(R4)}×n+126]/2 …(2);
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于欧姆龙株式会社,未经欧姆龙株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200980119866.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。