[发明专利]用于铜-锡合金无氰化物沉积的含焦磷酸盐的镀液

权利要求书

1.含焦磷酸盐的镀液，其用于铜-锡合金在基底表面上的无氰化物沉积，包含仲单胺与二环氧甘油醚的反应产物。

2.根据权利要求1的含焦磷酸盐的镀液，其中所述仲单胺选自由二甲胺、二乙胺、二丙胺、二丁胺、二戊胺、二异丙胺、哌啶、硫代吗啉、吗啉及其混合物组成的组。

3.根据权利要求1或2的含焦磷酸盐的镀液，其中所述二环氧甘油醚选自由甘油二环氧甘油醚、聚(丙二醇)二环氧甘油醚、聚(乙二醇)二环氧甘油醚及其混合物组成的组。

4.根据权利要求1至3任一项的含焦磷酸盐的镀液，其中所述仲单胺是吗啉且所述二环氧甘油醚是甘油二环氧甘油醚。

5.根据权利要求1至4任一项的含焦磷酸盐的镀液，其中所述反应产物是通过使所述仲单胺与所述二环氧甘油醚在水中、在非质子溶剂中或在本体中、在15至100℃的温度、在标准压力反应而制造的。

6.根据权利要求5的含焦磷酸盐的镀液，其中所述反应产物是在20至80℃的温度制造的。

7.根据权利要求1的含焦磷酸盐的镀液，其中二环氧甘油醚与仲单胺的摩尔比为0.8至2。

8.根据权利要求7的含焦磷酸盐的镀液，其中所述摩尔比为0.9至1.5。

9.根据权利要求1至8任一项的含焦磷酸盐的镀液，其中以0.0001至20克/升的浓度包含所述反应产物。

10.根据权利要求9的含焦磷酸盐的镀液，其中以0.001至1克/升的浓度包含所述反应产物。

11.根据权利要求1至10任一项的含焦磷酸盐的镀液，进一步包含选自由正磷酸、有机磺酸、硼酸、抗氧化剂和有机增亮剂组成的组的添加剂。

12.根据权利要求1至11任一项的含焦磷酸盐的镀液，进一步包含N-甲基吡咯烷酮。

13.根据权利要求12的含焦磷酸盐的镀液，其中以0.1至50克/升的浓度包含N-甲基吡咯烷酮。

14.根据权利要求13的含焦磷酸盐的镀液，其中以0.5至15克/升的浓度包含N-甲基吡咯烷酮。

15.根据权利要求1至14任一项的含焦磷酸盐的镀液，具有3至9的pH值。

16.根据权利要求15的含焦磷酸盐的镀液，具有6至8的pH值。

17.电沉积有光泽和均匀的铜-锡合金涂层的方法，包括将要被涂布的基底引入根据权利要求1至16的无氰化物含水电解质镀液中，并在该基底上沉积铜-锡合金涂层。

18.根据权利要求17的方法，其中所述镀液在0.01至2A/dm²的设定电流密度工作。

19.根据权利要求18的方法，其中所述镀液在0.25至0.75A/dm²的设定电流密度工作。

20.根据权利要求17的方法，其中所述镀液在15至50℃工作。

21.根据权利要求17的方法，其中所述镀液在20至30℃工作。

22.根据权利要求17至21的方法，其中通过挂镀法在导电基底上沉积涂层。

23.根据权利要求17至22的方法，其中使用膜阳极作为阳极。

24.如权利要求1至8所述的反应产物。

25.根据权利要求24的反应产物作为增亮剂的用途。