[发明专利]具有混合光催化剂的光催化装置/二氧化硅结构有效
| 申请号： | 200980120564.6 | 申请日： | 2009-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN102131577A | 公开（公告）日： | 2011-07-20 |
| 发明（设计）人： | T·胡根纳-坎贝尔;D·F·奥里斯;T·H·范德斯普特;W·R·施米特;T·N·奥比;S·O·海尔;M·A·克滋曼 | 申请（专利权）人： | 开利公司 |
| 主分类号： | B01J21/08 | 分类号： | B01J21/08;B01D53/86 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 王伦伟;林毅斌 |
| 地址： | 美国康*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 具有 混合 光催化剂 光催化 装置 二氧化硅 结构 | ||
1. 光催化装置，其包括：
基底；和
由所述基底承载的光催化剂和二氧化硅颗粒的混合结构。
2. 权利要求1的光催化装置，其中所述混合结构包括光催化剂颗粒和二氧化硅颗粒的交替层。
3. 权利要求2的光催化装置，其中所述二氧化硅颗粒层具有小于大约60nm的厚度。
4. 权利要求1的光催化装置，其中所述混合结构包括光催化剂颗粒和二氧化硅颗粒的混合物层。
5. 权利要求4的光催化装置，其中所述混合结构包含按体积大约5%至大约50%的二氧化硅颗粒。
6. 权利要求5的光催化装置，其中所述混合结构包含按体积大约50%或更低的孔隙度。
7. 权利要求4的光催化装置，其中所述二氧化硅颗粒的表面积为大约350至大约400m2/克。
8. 权利要求4的光催化装置，其中所述层具有光催化剂颗粒和二氧化硅颗粒的阶梯式混合物。
9. 权利要求8的光催化装置，其中所述二氧化硅颗粒的粒径为大约7nm至大约40nm。
10. 权利要求4的光催化装置，其中二氧化硅颗粒与光催化剂颗粒的比率在所述整个层中是均匀的。
11. 空气净化系统，其包括：
入口；
出口；
用于与有机化合物反应的光催化剂装置，所述光催化剂装置具有承载在基底上的光催化剂颗粒和二氧化硅颗粒的混合结构；和
用于提供所述光催化装置的UV照射的UV源。
12. 权利要求11的系统，其中所述混合结构包括光催化剂颗粒和二氧化硅颗粒的交替层。
13. 权利要求12的系统，其中所述二氧化硅颗粒层具有小于大约60nm的厚度。
14. 权利要求11的系统，其中所述混合结构包括光催化剂颗粒和二氧化硅颗粒的混合物层。
15. 权利要求14的系统，其中所述混合物包含按体积大约5%至大约50%的二氧化硅颗粒。
16. 权利要求15的系统，其中所述混合物包含按体积大约50%或更低的孔隙度。
17. 权利要求14的系统，其中所述二氧化硅颗粒的表面积为大约350至大约400m2/克。
18. 权利要求14的系统，其中所述层具有光催化剂颗粒和二氧化硅颗粒的阶梯式混合物。
19. 权利要求18的系统，其中所述层在与所述基底相对的表面处与邻近于所述基底的表面处相比较具有较高的二氧化硅浓度。
20. 光催化装置，其包括：
基底；和
由所述基底承载的光催化剂颗粒和二氧化硅颗粒的混合结构，其中所述光催化剂颗粒具有直径为大约4nm或更高的孔，且其中所述二氧化硅颗粒的粒径为大约7nm至大约40nm。
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