[发明专利]具有定位功能的载物台、包括该具有定位功能的载物台的处理装置和基板定位方法有效
申请号: | 200980120845.1 | 申请日: | 2009-06-03 |
公开(公告)号: | CN102057477A | 公开(公告)日: | 2011-05-11 |
发明(设计)人: | 佐藤诚一;矢作充;南展史;武者和博;高桥诚 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱发科 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;B23Q1/01;B65G49/06;B65G49/07;H01L21/304;H01L21/68;B05C13/00 |
代理公司: | 北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015 | 代理人: | 齐永红 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 定位 功能 载物台 包括 处理 装置 方法 | ||
1.一种具有定位功能的载物台,包括暴露处理对象物的处理面并保持处理对象物的载物台本体,其特征在于:
包括可自由吸附在与所述处理对象物的所述处理面相对的另一面上的吸附装置、向所述吸附装置上的吸附位置以外的区域供给气体的气体供给装置、对所述吸附装置进行旋转驱动以使所述处理对象物以所述吸附装置为旋转中心在同一平面内旋转的驱动装置。
2.一种具有定位功能的载物台,包括暴露处理对象物的处理面并保持处理对象物的保持盘、旋转自由地支撑所述保持盘的载物台本体,其特征在于:
包括向所述保持盘中处理对象物的处理面相对的另一面供给气体的气体供给装置、对所述保持盘进行旋转驱动以使所述保持盘在同一平面内旋转的驱动装置。
3.如权利要求1或2所述的具有定位功能的载物台,其特征在于:还包括引导装置、使所述载物台本体沿所述引导装置移动的移动装置。
4.如权利要求1至3中任一项所述的具有定位功能的载物台,其特征在于:包括在所述载物台本体或保持盘的与所述处理对象物接触的面上形成吸附槽,在将所述处理对象物载置在载物台上或保持盘上的状态下,对所述吸附槽抽真空的真空泵。
5.权利要求1至4中任一项所述的具有定位功能的载物台,其特征在于:所述驱动装置由使所述吸附装置在规定的微小角度范围内旋转的微动机构、使所述吸附装置在比微动机构大的角度范围内旋转的粗动机构构成。
6.权利要求5所述的具有定位功能的载物台,其特征在于:所述粗动机构连接到所述吸附装置,所述微动机构包括臂和摇动该臂的驱动源,所述微动机构与所述粗动机构连接,从而在该驱动源使该臂摇动时,通过粗动机构来对所述吸附装置进行旋转驱动。
7.权利要求5或6所述的具有定位功能的载物台,其特征在于:所述微动机构的臂具有至少伸展到载物台本体一侧的长度,其前端与所述驱动源连接。
8.一种处理装置,其特征在于:包括权利要求1至7中任一项所述的具有定位功能的载物台,和与保持在所述载物台上的处理对象物相对配置、对处理对象物实施规定的处理的处理装置。
9.一种基板定位方法,其特征在于:包括
暴露要处理的处理对象物的处理面并将该基板载置在载物台上的工序;
使设置在所述载物台上的吸附装置吸附在与所述处理对象物的所述处理面相对的另一面上的工序;
向除了被所述吸附装置吸附的区域以外的所述其他区域上供给气体的工序;
使所述基板以所述吸附装置为旋转中心在同一平面内旋转规定的角度,从而对所述处理对象物进行定位的工序。
10.如权利要求9所述的基板定位方法,其特征在于:对所述处理对象物进行定位的工序,在比规定的微小角度大的角度范围内旋转吸附装置之后,进一步在所述微小角度范围内旋转吸附装置来进行。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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