[发明专利]纳米压印用模具、其制造方法及表面具有微细凹凸结构的树脂成形体以及线栅型偏振器的制造方法有效
申请号: | 200980121189.7 | 申请日: | 2009-06-04 |
公开(公告)号: | CN102046357A | 公开(公告)日: | 2011-05-04 |
发明(设计)人: | 海田由里子;坂本宽;见矢木崇平;高山公介;志堂寺荣治 | 申请(专利权)人: | 旭硝子株式会社 |
主分类号: | B29C59/02 | 分类号: | B29C59/02;B29C33/40;B29C33/42;H01L21/027;B29L11/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 刘多益;胡烨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 纳米 压印 模具 制造 方法 表面 具有 微细 凹凸 结构 树脂 成形 以及 线栅型 偏振 | ||
1.一种纳米压印用模具,该模具的模具面具有微细凹凸结构,其特征在于,包括:
树脂制的模胚,该模胚是所述微细凹凸结构的胚,其表面具有微细凹凸结构;
金属氧化物层,该金属氧化物层被覆所述模胚的具有微细凹凸结构的表面;
脱模层,该脱模层被覆所述金属氧化物层的表面。
2.如权利要求1所述的纳米压印用模具,其特征在于,所述模具面的微细凹凸结构是具有凸条或沟的结构。
3.如权利要求2所述的纳米压印用模具,其特征在于,所述凸条的宽度或沟的宽度平均为10nm~50μm。
4.如权利要求2或3所述的纳米压印用模具,其特征在于,所述金属氧化物层和所述脱模层的厚度分别在1nm以上,两者的总厚度在沟的宽度的0.4以下。
5.如权利要求1~4中的任一项所述的纳米压印用模具,其特征在于,所述模具面的微细凹凸结构是相互平行且以一定的间距形成的多条沟,该沟的间距为30~300nm。
6.如权利要求1~5中的任一项所述的纳米压印用模具,其特征在于,所述金属氧化物层是包含选自Si、Al和Zr的至少1种金属的氧化物的层。
7.如权利要求1~6中的任一项所述的纳米压印用模具,其特征在于,所述脱模层是由具有氟代烷基的化合物形成的脱模层,所述氟代烷基可具有醚性氧原子。
8.如权利要求1~7中的任一项所述的纳米压印用模具,其特征在于,所述模胚由光固化性树脂组合物的固化物形成。
9.一种纳米压印用模具的制造方法,其特征在于,包括:
在支承基板的表面形成光固化性树脂组合物层的工序;
将所述支承基板与模具面具有微细凹凸结构的母模重叠,将所述光固化性树脂组合物夹持在所述母模的模具面和所述支承基板的表面之间的工序;
在所述光固化性树脂组合物被夹持住的状态下使该光固化性树脂组合物固化,形成表面具有与所述模具面的微细凹凸结构颠倒的微细凹凸结构的模胚的工序;
将所述模胚和所述母模分离的工序;
在所述模胚的具有微细凹凸结构的表面形成金属氧化物层的工序;
在所述金属氧化物层的表面形成脱模层的工序。
10.如权利要求9所述的纳米压印用模具的制造方法,其特征在于,形成所述金属氧化物层的方法是溅射法。
11.如权利要求9或10所述的纳米压印用模具的制造方法,其特征在于,形成所述脱模层的方法是如下方法:使含脱模剂的溶液与金属氧化物层表面接触,然后用洗涤液清洗金属氧化物层表面并进行干燥。
12.一种表面具有微细凹凸结构的树脂成形体的制造方法,其特征在于,包括:
在支承基板的表面形成光固化性树脂组合物层的工序;
将所述支承基板与权利要求1~8中的任一项所述的纳米压印用模具重叠,将所述光固化性树脂组合物夹持在具有所述微细凹凸结构的模具面和所述支承基板的表面之间的工序;
在所述光固化性树脂组合物被夹持住的状态下使该光固化性树脂组合物固化,形成表面具有与所述模具面的微细凹凸结构颠倒的微细凹凸结构的树脂成形体的工序;
将所述树脂成形体和所述模具分离的工序。
13.一种线栅型偏振器的制造方法,其特征在于,包括:
在支承基板的表面形成光固化性树脂组合物层的工序;
将所述支承基板与权利要求5所述的纳米压印用模具重叠,将所述光固化性树脂组合物夹持在具有所述沟的模具面和所述支承基板的表面之间的工序;
在所述光固化性树脂组合物被夹持住的状态下使该光固化性树脂组合物固化,形成具有多条与所述模具面的沟对应的凸条的透光性基板的工序;
将所述透光性基板和所述模具分离的工序;
在所述透光性基板的凸条上形成金属层的工序。
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