[发明专利]曝光装置和曝光方法无效
| 申请号： | 200980121613.8 | 申请日： | 2009-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN102057331A | 公开（公告）日： | 2011-05-11 |
| 发明（设计）人： | 春原英明 | 申请（专利权）人： | 夏普株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01B11/00;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人： | 权鲜枝 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种曝光装置，是可以对作为曝光对象物的基板进行曝光的步进扫描方式的曝光装置，其特征在于：
具备可以检测形成于上述基板的表面的对准标记的多个标记检测系统和可以分别对规定的投影区域照射光能的多个投影光学系统，上述标记检测系统配设在相邻的上述投影光学系统彼此之间以及上述多个投影光学系统的两端。
2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于：
当对设定于上述曝光对象物的某一投影区域和与该一投影区域相邻的另一投影区域进行曝光时，共用设置在上述某一投影区域与另一投影区域之间的对准标记，进行上述某一投影区域和上述另一投影区域的定位。
3.一种曝光方法，其特征在于：
当对设定于上述曝光对象物的某一投影区域和与该一投影区域相邻的另一投影区域进行曝光时，共用设置在上述某一投影区域与另一投影区域之间的对准标记，进行上述某一投影区域和上述另一投影区域的定位。
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