[发明专利]用于在存储介质中产生微结构的方法

权利要求书

1.一种用于在存储介质中产生微结构的方法，其中，写入光束定向到写入轨迹上，在布置在那里的存储材料上聚焦并且相对于存储材料运动，

其中，所述微结构通过在该存储材料内逐点引入光束能量被写入到该存储材料内，并且

其中，将所述存储材料连续地或不连续地沿写入轨迹-运行方向继续运动，

其特征在于，提供至少一个用于另外的存储介质的另外的写入轨迹，并且在第一写入轨迹上写入存储介质后将所述写入光束偏转到下一个写入轨迹上。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：

相互平行地设置所述写入轨迹。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于：

在所述写入轨迹上，写入仅在确定的写入部分内进行。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于：

写入分别在所述写入轨迹的与运行方向相对的相互错开布置的写入部分内进行。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于：

所述存储材料沿各写入轨迹以相同的速度和/或相同的节奏运动。

6.一种用于在存储介质中生成微结构的方法，

其中，写入光束定向到写入轨迹上，在布置在那里的存储材料上聚焦并且相对于存储材料运动，和

其中，所述微结构通过在该存储材料内逐点引入光束能量写入到所述写入轨迹上的写入区域内，并且

其特征在于，在所述写入轨迹上提供至少一个用于写入另外的微结构的另外的写入区域，并且在第一写入区域上写入第一微结构后将所述写入光束偏转到下一个写入区域上。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于：

所述存储材料沿写入轨迹-运行方向继续运动，

优选地，所述存储材料在最后的写入区域内进行写入后不连续地继续运动，特别地被加速，直至所述存储材料的最后被写入的部分离开所有写入区域。

8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于：

将所述写入光束从写入轨迹到写入轨迹或者从写入区域到写入区域如下偏转：使得该写入光束到待写入的存储材料的光程基本上保持恒定。

9.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于：

所述写入光束被光电地和/或机电地偏转。

10.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于：

使用带状的存储材料或其形式为布置在支承带上的标签的存储材料。

11.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于：

所述写入光束在到达最后的写入轨迹后偏转回到第一写入轨迹，或者在到达最后的写入部分后偏转回到第一写入部分。

12.一种用于在存储材料内生成微结构的光刻设备，特别地用于执行根据权利要求1至11中任一项所述方法的光刻设备，

包括：用于生成写入光束的光源，用于使所述写入光束在写入部分内运动的驱动装置，以及用于将该写入光束聚焦的至少一个透镜，

其特征在于：

提供多个写入部分或写入轨迹，并且

提供用于将所述写入光束从写入部分偏转到下一个写入部分或从写入轨迹偏转到下一个写入轨迹的偏转装置。

13.根据权利要求12所述的光刻设备，其特征在于：

每个写入部分或每个写入轨迹分别与至少一个透镜相关联。

14.根据权利要求12或13所述的光刻设备，其特征在于：

提供电流计、多边形棱镜和/或光电结构作为所述偏转装置。

15.根据权利要求12至14中任一项所述的光刻设备，其特征在于：

每个写入轨迹具有固定的写入部分，并且

写入轨迹的写入部分相互与运行方向相对地错开布置。