[发明专利]图案形成方法及使用其的装置的制造方法以及装置

权利要求书

1.一种图案形成方法，其特征在于，将在基板上形成有光热转换层和分区图案、且在所述分区图案内存在转印材料的施主基板与装置基板对置，用光照射光热转换层使所述转印材料的至少一部分与所述分区图案的至少一部分同时被加热，由此将所述转印材料转印到装置基板上。

2.如权利要求1所述的图案形成方法，其特征在于，用光照射光热转换层，所述光的宽度比存在于分区图案内的转印材料的宽度宽。

3.如权利要求1或2所述的图案形成方法，其特征在于，使用存在2种以上的不同转印材料的施主基板，用光照射光热转换层，由此将所述2种以上的不同转印材料一次全部转印，所述光的宽度比所述2种以上不同转印材料各自的宽度与存在于所述转印材料间的分区图案的宽度的总和要宽。

4.如权利要求1～3中任一项所述的图案形成方法，其特征在于，通过分多次对光热转换层照射光，将至少一种转印材料在膜厚方向上分多次进行转印。

5.如权利要求1～4中任一项所述的图案形成方法，其特征在于，将至少包含转印材料和溶剂的溶液涂布到分区图案内，使所述溶剂干燥后，转印所述转印材料。

6.如权利要求5所述的图案形成方法，其特征在于，至少1种转印材料在涂布时具有对溶剂为可溶性的基团，涂布后利用热或光使所述可溶性基团转化或脱离，之后转印所述转印材料。

7.一种装置的制造方法，其特征在于，通过权利要求1～6中任一项所述的方法将构成装置的层中的至少1层进行图案形成。

8.一种装置，包括基板、形成于所述基板上的绝缘层和至少在所述绝缘层之间形成的薄膜层，将相邻绝缘层间的开口宽度设为A，将存在于与所述开口对应的区域中的薄膜层的宽度设为E，将绝缘层的间距设为P时，A＜E＜P，且与宽度方向相邻的薄膜层间的间隔基本恒定。

9.如权利要求8所述的装置，其中，A+4(μm)≤E(μm)≤P-10(μm)。

10.如权利要求8或9所述的装置，其中，薄膜层为发光层，装置为有机EL元件。