[发明专利]外观修改设备、制造这种设备的方法和由这种设备覆盖的器具有效

专利信息
申请号: 200980122852.5 申请日: 2009-06-10
公开(公告)号: CN102067029A 公开(公告)日: 2011-05-18
发明(设计)人: A.R.M.弗舒伦;G.奥弗斯吕詹;S.J.鲁森达尔;T.C.克拉恩;D.K.G.德博尔 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G02F1/167 分类号: G02F1/167
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 龚海军;刘鹏
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 外观 修改 设备 制造 这种 方法 覆盖 器具
【权利要求书】:

1. 一种外观修改设备(10),用于修改由其覆盖的表面的视觉外观,包括:

- 第一(11)和第二(12)相对设置的衬底;

- 隔离结构(13),其将第一衬底(11)和第二衬底(12)隔开,使得第一衬底(11)和第二衬底(12)之间的空间被划分成多个单元(15,16),其中所述多个单元(15,16)的各单元(15,16)的形状使得所述多个单元(15,16)形成非周期性单元图案(14);以及

- 在每个单元(15,16)中,具有其中散布的多个颗粒(20)的光学透明流体(19),这些颗粒(20)可通过施加电场而在流体(19)中运动。

2. 依照权利要求1的外观修改设备(10),其中所述多个颗粒(20)是可通过施加电场在流体中运动的处于散布颗粒状态与聚集颗粒状态之间的平面内运动颗粒。

3. 依照权利要求1的外观修改设备(10),其中所述单元(15,16)具有变化的形状、尺寸和/或取向。

4. 依照权利要求1的外观修改设备(10),其中所述单元(15,16)中的一个或多个具有不规则的形状。

5. 依照权利要求1的外观修改设备(10),其中所述单元图案(14)是准晶体图案。

6. 依照前面的权利要求中任何一项的外观修改设备(10),还包括:

- 设置在第一衬底(11)的第一侧上的第一电极层(17),该第一电极层(17)被电介质层(18)覆盖;以及

- 至少通过电介质层(18)与第一电极层(17)隔开的第二电极(13),

其中在每个单元(15,16)中,电介质层(18)具有在其中形成的至少一个凹口(17);并且

其中每个单元(15,16)内的颗粒(20)分布可通过跨电极(17,13)施加电压而被控制从第一散布状态到其中邻近电介质层(18)中的所述至少一个开口(17)和第二电极(13)中的至少一个地集中颗粒(20)的第二状态。

7. 依照权利要求6的外观修改设备(10),其中所述至少一个凹口(17)基本上居中地位于单元(15,16)中。

8. 依照权利要求6或7的外观修改设备(10),其中在多个单元(15,16)中,电介质层(18)具有在其中形成的多个凹口(17)。

9. 依照权利要求6或7的外观修改设备(10),其中在每个单元(15,16)中,电介质层(18)具有在其中形成的多个开口(17)以便使第一电极层(17)的多个部分暴露。

10. 依照权利要求6-9中任何一项的外观修改设备,其中隔离结构(13)是导电的并且形成第二电极。

11. 一种包括表面的器具(1;5;8),其中该表面至少部分地被依照权利要求1-10中任何一项的外观修改设备(10)覆盖。

12. 一种制造用于修改由其覆盖的表面的视觉外观的外观修改设备的方法,该方法包括:

- 提供(701)第一衬底;

- 在第一衬底上提供(702)隔离结构以形成多个单元,所述多个单元的各单元的形状使得所述多个单元形成非周期性单元图案;

- 在每个单元中,提供(705)具有散布于其中的多个颗粒的光学透明流体;以及

- 将第二衬底设置(706)成覆盖所述单元。

13. 依照权利要求12的方法,还包括:

- 在第一衬底的第一侧上提供(701)由电介质层覆盖的第一电极层;

- 在第一衬底的第一侧上提供(702)形成所述多个单元的隔离结构,使得每个单元占用的区域包括第一电极层的部分;

- 提供(703)至少通过电介质层与第一电极层隔开的第二电极,以及

- 在与每个单元相应的区域中移除(704)电介质层的至少一部分。

14. 依照权利要求13的方法,其中所述移除(704)包括:

- 在与每个单元相应的区域的中心部分中移除电介质层的所述部分。

15. 依照权利要求13的方法,其中所述移除(704)包括:

- 在与每个单元相应的区域中移除电介质层的多个部分。

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