[发明专利]具有释放表面的保护膜

说明书

相关申请的交叉引用

本申请要求2008年6月27日提交的美国临时专利申请第61/133,356号的优先权。

背景技术

本发明涉及用于在制造、贮藏、运输或使用中保护基材表面的膜。本发明还涉及制备所述膜的方法。

表面保护膜也被称为掩膜，通常用于提供物理屏障，以防基材发生破坏、污染、刻划、刮擦或其它损坏。掩膜可用于例如在基材使用前的制造、运输或贮藏中提供这些保护。这些膜在许多的应用中可用作表面的保护性覆盖层，特别是用于保护较光滑的表面，例如丙烯酸类、聚碳酸酯类、玻璃、抛光或涂漆的金属和上釉的陶瓷表面。例如用于电视机、监控器和其它显示器的光学基材需要既保护表面又可在去除时不在表面上造成损坏、留下粘合剂残余物或其它污染物或微粒的掩膜。

通常，掩膜包括电晕处理的膜或者涂覆粘合剂的纸或膜。电晕处理的膜是经静电放电处理的膜，以氧化膜的表面。该氧化作用提高膜的表面张力和对极性表面的吸引力。这样的电晕处理的膜通常为光滑的膜，依赖于非常精确的电晕处理以促进粘合。由于没有压纹，电晕处理的膜通常容易起皱，使得难以使用和操作这些膜。另一个缺点是促进电晕处理效果的粘合作用随时间而消散。

一般来说，常规掩膜较难使用和操作。因为掩膜设计成与表面粘合，它们也可在掩膜绕在辊上或粘合表面接触掩蔽膜的一部分时与其自身发生粘合。这种所谓的结块可导致加工困难，包括延迟和浪费材料。为降低自身粘合的倾向，可用弱粘合剂涂覆掩膜。掩膜上的弱粘合剂可防止膜在辊上与其自身发生紧密粘合，然而，弱粘合剂也可能无法提供与需要保护表面的充分粘合。

其它膜在粘合表面的反面可配有一个不光滑的表面，常称为单侧粗糙(“OSM”)掩膜。粗糙表面的不规则性不能为粘合提供良好表面，为掩膜提供抗结块性质。

需要自身粘合低，但能与基材充分粘合以提供合适保护作用的掩膜。还需要具有缓冲作用并便于操作平坦基材的掩膜。

在其它应用中，可能需要采用不粘合表面，但与基材交错以提供物理分离的材料。这样的应用常用于制造操作中，例如，其中光学级玻璃或塑料基材钉在一起。在这样的应用中，纸或其它材料用于与基材交错放置以防损坏。交错片材也用于叠置易碎和刻划敏感基材之间，以在向最终用户的运输期间提供极光滑光学基材之间的分离作用。

相应地，也需要用于保护基材表面的低成本非粘附材料。

发明内容

在一个实施方式中，掩膜包含具有至少一个三维释放表面的聚合物膜网状物。

在一个实施方式中，所述三维释放表面包含与所述膜形成一体的多个突出凸起。

在一个实施方式中，所述突出凸起包含多个间隔的肋条(rib)。

在一个实施方式中，所述三维释放表面包含聚合物小块(nub)。

在一个实施方式中，所述掩膜包含与三维释放表面相反的粘合层。

参考附图和权利要求书，进一步阅读说明书后不难理解这些和其它实施方式。

附图说明

图1是显示与基材粘合并包含释放层和粘合层的掩膜的横截面图，其中所述释放层包含具有多个有孔凸起的三维释放表面。

图1A是显示与基材粘合并包含释放层和粘合层的掩膜的横截面图，其中所述释放层包含具有长斜方形压纹图案的三维释放表面。

图1B是显示与基材粘合并包含释放层和粘合层的掩膜的横截面图，其中所述释放层包含多平面膜(multiplanar film)。

图2是具有第一释放层、芯层和第二释放层的掩膜的横截面图，其中各释放层包含具有多个无孔凸起的三维释放表面。

图3是包含具有两个释放表面的单层膜的掩膜的横截面图。

图4是具有粘合层和释放层的掩蔽膜的透视图，其中释放层具有包含间隔的纵向肋条的三维释放表面。

图4A是除不含任何粘合层外与图4实施方式相似的掩膜的横截面图。

图5是具有粘合层和释放层的掩膜的透视图，其中释放层具有包含聚合物珠的三维表面。

图5A是图5掩膜的横截面图，沿图5中的线和箭头A-A所示。

图6是具有两个三维释放表面的膜的另一个实施方式的横截面图。

图7是真空层压工艺的示意图。

图8是可用于制备某些实施方式的压纹和/或真空成型工艺的示意图。

发明详述

美国专利第4,395,760、5,100,709、5,693,405、6,040,046、6,326,081和6,387,484号描述了掩膜，这些专利均通过引用纳入本文。