[发明专利]处理系统和用于操作处理系统的方法

权利要求书

1.一种用于处理衬底的处理系统(1)，包括：

室排列，所述室排列包括

至少用于涂布所述衬底的第一处理室(4，30)、用于涂布所述衬底的第二处理室(7，40)和/或转移室(6)；以及

至少锁定室(3，20)，其构造为将所述衬底锁定在所述室排列中和/或将所述衬底锁定在所述室排列之外；

第一传输路径(T1)，其用于将所述衬底传输通过所述室排列；以及

第二传输路径(T2)，其用于将所述衬底传输通过所述室排列，其中

所述第二传输路径(T2)相对于所述第一传输路径(T1)横向偏移，

所述系统的特征在于，

所述第一处理室(4，30)包括用于将所述衬底从所述第一传输路径(T1)转移到所述第二传输路径(T2)和/或从所述第二传输路径(T2)转移到所述第一传输路径(T1)的装置，并且

所述用于将所述衬底从所述第一传输路径(T1)转移到所述第二传输路径(T2)和/或从所述第二传输路径(T2)转移到所述第一传输路径(T1)的装置包括至少第一引导部分和第二引导部分的组合，其中，所述第一引导部分与所述第二引导部分平行地设置，并且其中，通过由转移系统所导致的所述第一引导部分与所述第二引导部分的横向移动，所述衬底能够被从所述第一传输路径被传输到所述第二传输路径和从所述第二传输路径传输到所述第一传输路径，所述转移系统设置在所述第一传输路径和所述第二传输路径的同所述处理腔室中的涂布工具相反的一侧上。

2.根据权利要求1所述的处理系统(1)，其特征在于，

所述用于将所述衬底从所述第一传输路径(T1)转移到所述第二传输路径(T2)和/或从所述第二传输路径(T2)转移到所述第一传输路径(T1)的装置包括与所述第一引导部分和所述第二引导部分平行地设置的第三引导部分。

3.根据权利要求2所述的处理系统(1)，其特征在于，

所述第一引导部分、所述第二引导部分和/或所述第三引导部分设置为使得相对于彼此的距离对应于所述第一传输路径(T1)与所述第二传输路径(T2)之间的距离。

4.根据权利要求1或2所述的处理系统(1)，其特征在于，

所述第一处理室(4，30)、所述第二处理室(7，40)和/或所述转移室(6)沿直线连接。

5.根据权利要求1或2所述的处理系统(1)，其特征在于，

所述处理系统(1)包括用于将衬底沿着所述第一传输路径(T1)以及沿着所述第二传输路径(T2)传输的传输系统。

6.根据权利要求5所述的处理系统(1)，其特征在于，

所述传输系统至少包括用于沿着所述第一传输路径(T1)和/或沿着所述第二传输路径(T2)引导衬底的引导件。

7.根据权利要求6所述的处理系统(1)，其特征在于，

所述用于引导衬底的引导件包括用于沿着所述第一传输路径(T1)引导所述衬底的第一引导件和用于沿着所述第二传输路径(T2)引导所述衬底的第二引导件。

8.根据权利要求1或2所述的处理系统(1)，其特征在于，

所述第一处理室(4，30)和/或所述第二处理室(7，40)包括在各个处理室中设置在所述第一传输路径(T1)的横向附近的涂布工具。

9.根据权利要求1所述的处理系统(1)，其特征在于，

所述锁定室(20)包括第一三导轨模块(21)，所述第一处理室(30)包括第二三导轨模块(33)，并且所述第二处理室(40)包括双导轨模块(43)，所述双导轨模块和所述三导轨模块(21；33)的导轨部分(22a、22b、22c)被构造为被独立地驱动，以沿着所述第一传输路径(T1)或所述第二传输路径(T2)彼此独立地移动两个不同的衬底。

10.根据权利要求2所述的处理系统(1)，其特征在于，

第一引导部分和第二引导部分的组合形成双导轨模块(43)，并且第一引导部分、第二引导部分和第三引导部分的组合形成三导轨模块(21，33)。

11.根据权利要求10所述的处理系统(1)，其特征在于，

所述双导轨模块(43)和所述三导轨模块(21，33)分别包括相对于彼此固定地设置的双导轨部分(44a、44b)和三导轨部分(22a、22b、22c；34a、34b、34c)。