[发明专利]液晶显示装置及其制造方法

权利要求书

1.一种液晶显示装置，其特征在于：

包括：有源矩阵基板；对置基板；和设置在所述有源矩阵基板与所述对置基板之间的垂直取向型的液晶层，

所述有源矩阵基板和所述对置基板中的至少一个具有光取向膜，

所述液晶显示装置还包括设置在所述光取向膜与所述液晶层之间且含有由光聚合性化合物聚合而得的聚合物的取向维持层。

2.如权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于：

所述光取向膜含有高分子，该高分子具有主链和含有肉桂酸酯基的侧链。

3.如权利要求1或2所述的液晶显示装置，其特征在于：

所述液晶显示装置具有多个像素，

所述液晶层在所述多个像素的每个像素中具有基准取向方位相互不同的多个液晶畴。

4.如权利要求3所述的液晶显示装置，其特征在于：

所述有源矩阵基板和所述对置基板各自具有所述光取向膜，所述多个液晶畴为四个液晶畴。

5.如权利要求1至4中任一项所述的液晶显示装置，其特征在于：

所述液晶层的液晶分子的预倾角在85°至89.7°的范围内。

6.如权利要求1至5中任一项所述的液晶显示装置，其特征在于：

所述光聚合性化合物具有：一个以上的环结构或稠环结构；和与所述环结构或稠环结构化学键合的一个以上的聚合性官能团。

7.如权利要求1至6中任一项所述的液晶显示装置，其特征在于：

所述光聚合性化合物为聚合性单体，所述聚合性单体以通式P1-A1-(Z1-A2)_n-P2表示，其中，P1和P2分别独立为丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、丙烯酰胺基、甲基丙烯酰胺基、乙烯基、乙烯氧基或环氧基，A1和A2分别独立表示1，4-亚苯基或萘-2，6-二基，Z1为-COO-基或-OCO-基或单键，n为0、1或2。

8.如权利要求7所述的液晶显示装置，其特征在于：

P1和P2为丙烯酸酯基，Z1为单键，n为0或1。

9.如权利要求7所述的液晶显示装置，其特征在于：

P1和P2为甲基丙烯酸酯基，Z1为单键，n为0或1。

10.如权利要求7所述的液晶显示装置，其特征在于：

P1和P2为丙烯酰胺基，Z1为单键，n为0或1。

11.如权利要求7所述的液晶显示装置，其特征在于：

P1和P2为甲基丙烯酰胺基，Z1为单键，n为0或1。

12.一种液晶显示装置的制造方法，其特征在于，包括以下工序：

准备有源矩阵基板和对置基板，并且照射光，在所述有源矩阵基板和所述对置基板中的至少一个上形成光取向膜；

通过向所述有源矩阵基板与所述对置基板之间赋予混合有光聚合性化合物的液晶材料，在所述有源矩阵基板与所述对置基板之间形成液晶层，并且在没有施加电压时，通过所述光取向膜规定所述液晶分子，使得所述液晶层的液晶分子从所述光取向膜的主面的法线方向倾斜地取向；和

通过照射光使所述光聚合性化合物聚合，由此在所述光取向膜与所述液晶层之间形成取向维持层。

13.如权利要求12所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：

在形成所述光取向膜的工序中，所述光取向膜含有高分子，该高分子具有主链和含有肉桂酸酯基的侧链。

14.如权利要求12或13所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：

在形成所述取向维持层的工序中，对所述液晶层进行所述光的照射而不施加电压。

15.如权利要求12至14中任一项所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：

在形成所述光取向膜的工序中，所述光的波长在250nm至400nm的范围内。

16.如权利要求12至15中任一项所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：

在形成所述光取向膜的工序中，从相对于所述有源矩阵基板和所述对置基板中的至少一个的主面的法线方向倾斜5°以上85°以下的方向照射光。

17.如权利要求12至16中任一项所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：

在形成所述光取向膜的工序中，所述光为非偏振光。

18.如权利要求12至16中任一项所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：

在形成所述光取向膜的工序中，所述光为直线偏振光、椭圆偏振光或圆偏振光。