[发明专利]三唑衍生物或其盐

权利要求书

1.式(I)表示的三唑衍生物或其制药学所容许的盐，

式中符号的含义如下所述，

R¹：分别可被取代的芳基或杂环基，或者低级亚烷基-环烷基，

R²：低级烷基，

R³：-H或低级烷基，或者R²和R³形成一体为C_2-6亚烷基，

R⁴：低级烷基、卤代低级烷基、低级亚烷基-O-低级烷基、环烷基、低级亚烷基-S-低级烷基、低级亚烷基-S(O)-低级烷基、低级亚烷基-S(O)₂-低级烷基或低级亚烷基-环烷基，

A环：分别可被取代的芳基、杂环基或环烷基，

但是，4-环丙基-3-(1-甲基-1-苯氧基乙基)-5-(2-甲基苯基)-4H-1，2，4-三唑、4-甲基-3-(1-甲基-1-苯氧基乙基)-5-(2-甲基苯基)-4H-1，2，4-三唑、3-(2-氯苯基)-4-环丙基-5-(1-甲基-1-苯氧基乙基)-4H-1，2，4-三唑、3-(2-氯苯基)-4-甲基-5-(1-甲基-1-苯氧基乙基)-4H-1，2，4-三唑、3-[1-(2-氯苯氧基)-1-甲基乙基]-4-甲基-5-(2-甲基苯基)-4H-1，2，4-三唑及3-[1-(2-氯苯氧基)-1-甲基乙基]-5-(2-氯苯基)-4-甲基-4H-1，2，4-三唑除外。

2.如权利要求1所述的化合物，R²为甲基、R³为-H或甲基。

3.如权利要求2所述的化合物，R⁴为C_1-3烷基或环丙基。

4.如权利要求3所述的化合物，A环为可分别被选自卤素、低级烷基、卤代低级烷基、-NH₂、-C(O)NH₂、氧代基、-O-低级亚烷基-OH及-O-低级亚烷基-C(O)NH₂的基团取代的苯基或杂环基。

5.如权利要求4所述的化合物，R¹为可分别被选自卤素、低级烷基、卤代低级烷基及-C(O)NH₂的基团取代的苯基或单环6元杂芳基。

6.如权利要求5所述的化合物，A环为可被选自-CONH₂、-O-低级亚烷基-OH及-O-低级亚烷基-C(O)NH₂的基团取代、还可被选自卤素及卤代低级烷基的基团取代的苯基，可被卤代低级烷基取代、还可被卤素取代的苯基，被2个以上的卤素取代的苯基或可被选自卤素、低级烷基、卤代低级烷基、-NH₂、-CONH₂及氧代基的基团取代的杂环基。

7.如权利要求6所述的化合物，R¹为

式中符号的含义如下所述，

X¹及X²：分别相同或不同，为C(H)、C(卤素)或N，

R¹¹：-H、卤素、低级烷基、卤代低级烷基或C(O)NH₂。

8.如权利要求7所述的化合物，A环是4位可被选自-CONH₂、-O-低级亚烷基-OH及-O-低级亚烷基-C(O)NH₂的基团取代、2位可被选自卤素及卤代低级烷基的基团取代的苯基，2位及4位均被卤素取代的苯基或分别可被选自卤素、低级烷基、卤代低级烷基、-NH₂、-CONH₂及氧代基的基团取代的吡啶基、噻吩基、噻唑基、异二氢吲哚基、吲唑基、苯并咪唑基、苯并三唑基、吡唑基、哌啶基、4，5，6，7-四氢吲唑基、4，5，6，7-四氢吡唑并[4，3-c]吡啶基或4，5，6，7-四氢苯并咪唑基。

9.如权利要求8所述的化合物，R³为甲基。

10.如权利要求9所述的化合物，X¹及X²分别相同或不同，为C(H)或C(卤素)。

11.如权利要求10所述的化合物，R¹¹为-H、卤素、低级烷基或卤代低级烷基。