[发明专利]用于显微光刻投影系统的远心性校正器

权利要求书

1.一种光刻投影系统，包括：

光源，

用于从所述光源接收光的照明装置，所述照明装置用于照射所述照明装置的像面处的掩模板，

用于向衬底上投影所述掩模板的图像的投影透镜，以及

位于所述照明装置的像面或像面的共轭面附近的远心性校正器，用于使照射所述掩模板的光进行局部角度重新分布，以匹配所述衬底处的远心性目标规范。

2.如权利要求1所述的投影系统，其特征在于，所述远心性校正器位于所述照明装置的像面内。

3.如权利要求1所述的投影系统，其特征在于，所述远心性校正器与所述掩模板基本毗邻或共轭。

4.如权利要求1所述的投影系统，其特征在于，所述远心性校正器包括校正表面，所述校正表面具有用于实现光的局部角度重新分布的局部斜率变化。

5.如权利要求4所述的投影系统，其特征在于，所述局部斜率的变化率被调节以控制所述衬底上的辐射均匀性。

6.一种用于实现包括照明装置和投影透镜的显微光刻投影系统的远心性和辐射均匀性目标的方法，包括步骤：

定义所述投影透镜的像面处的远心性和辐射均匀性的目标，以及

最优化所述照明装置、所述投影透镜以及位于所述照明装置的像面或像面的共轭面附近的远心性校正器的设计，以实现所述远心性和辐射均匀性的目标，

其中所述远心性校正器的最优化包括控制所述远心性校正器中的局部变化以接近远心性目标，以及控制远心性校正器中的局部变化的变化率以接近辐射均匀性目标。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述远心性校正器中的局部变化包括校正表面中的局部斜率变化，且所述局部变化中的变化率包括校正表面中的局部斜率变化的变化率。

8.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述远心性校正器中的局部变化包括校正表面中的局部折射率变化，且所述局部变化中的变化率包括校正表面中的局部折射率变化的变化率。

9.一种补偿包括照明装置和投影透镜的光刻投影系统中的实验测得误差的方法，包括以下步骤：

标识投影透镜的像面处的远心性误差，

在所述照明装置的像面处设定经修改的远心性目标，以补偿所标识的远心性误差，以及

在位于所述照明装置的像面或像面的共轭附近的远心性校正器中纳入变化，以达到经修改的远心性目标。

10.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述远心性校正器包括校正表面，且纳入变化的所述步骤包括在所述校正表面中产生局部斜率变化。

11.如权利要求9所述的方法，其特征在于，包括以下步骤：

标识所述投影透镜的像面处的辐射均匀性误差，

在所述照明装置的像面处设定经修改的远心性目标，以补偿所标识的辐射均匀性误差，以及

在所述远心性校正器中纳入变化，以达到经修改的辐射均匀性目标。

12.如权利要求11所述的方法，其特征在于，所述远心性校正器具有校正表面，且纳入变化的所述步骤包括控制所述校正表面中的局部斜率变化，以接近经修改的远心性目标。

13.如权利要求11所述的方法，其特征在于，所述远心性校正器具有校正表面，且纳入变化的所述步骤包括控制所述校正表面中的局部斜率变化的变化率，以接近经修改的辐射均匀性目标。

14.如权利要求11所述的方法，其特征在于，所述远心性校正器具有校正表面，且纳入变化的所述步骤包括控制所述校正表面中的局部斜率变化以接近经修改的远心性目标，并控制所述校正表面中的局部斜率变化的变化率以接近经修改的辐射均匀性目标。