[发明专利]正型抗蚀剂组合物以及微透镜的制造方法

权利要求书

1.一种正型抗蚀剂组合物，其包含下述成分(A)、成分(B)和成分(C)：

成分(A)：包含具有联苯结构的结构单元的碱溶性聚合物；

成分(B)：具有能够进行光分解、并在光分解时产生碱溶性基团的有机基团的化合物；

成分(C)：溶剂。

2.根据权利要求1所述的正型抗蚀剂组合物，其中，成分(A)的碱溶性聚合物是包含式(1)所示结构单元的聚合物，且当将构成聚合物(A)的结构单元的总数设为1.0时，构成聚合物(A)的式(1)所示结构单元的比例n1满足0.3≤n1≤1.0，

式(1)

式(1)中，R₁表示卤原子、烷基、烷氧基、巯基、氰基、氨基、酰胺基、烷基羰基、烷硫基或它们的组合，R₂表示羧基或羟基，R₃表示氢原子或甲基；Q₁表示单键或2价连接基；m2为0～5的整数，m4为0～4的整数，且(m2+m4)为1～9的整数；m1为满足0≤m1≤(5-m2)的整数，m3为满足0≤m3≤(4-m4)的整数。

3.根据权利要求1所述的正型抗蚀剂组合物，其中，成分(A)的碱溶性聚合物是包含式(2)所示结构单元和式(3)所示结构单元的聚合物，且当将构成聚合物(A)的全部结构单元的总数设为1.0时，构成聚合物(A)的式(2)所示结构单元的比例n2和式(3)所示结构单元的比例n3满足0.2≤n2≤0.8、0.1≤n3≤0.7、且0.3≤n2+n3≤1.0，

式(2)

式(2)中，R₁表示卤原子、烷基、烷氧基、巯基、氰基、氨基、酰胺基、烷基羰基、烷硫基或它们的组合，R₂表示羧基或羟基，R₃表示氢原子或甲基；Q₁表示单键或2价连接基；m2为0～5的整数，m4为0～4的整数，且(m2+m4)是0～9的整数；m1为满足0≤m1≤(5-m2)的整数，m3为满足0≤m3≤(4-m4)的整数，

式(3)

式(3)中，R₄、R₅分别表示氢原子、甲基、羧基或碳原子数为1～3的羧烷基，Q₂表示单键、碳原子数为1～3的亚烷基或碳原子数为6～20的亚芳基。

4.根据权利要求1所述的正型抗蚀剂组合物，其中，成分(A)的碱溶性聚合物是包含权利要求2所述的式(1)所示结构单元、式(4)所示结构单元和/或式(5)所示结构单元的聚合物，且当将构成聚合物(A)的全部结构单元的总数设为1.0时，构成聚合物(A)的式(1)所示结构单元的比例n1、式(4)所示结构单元的比例n4和式(5)所示结构单元的比例n5满足0.3≤n1≤0.7、0≤n4≤0.4、0≤n5≤0.4、且0.3≤n1+n4+n5≤1.0，

式(4)

式(4)中，R₆和R₇分别表示氢原子、甲基、羧基或碳原子数为1～3的羧烷基，R₈表示碳原子数为1～10的取代或未取代的烷基、碳原子数为3～6的环氧基、碳原子数为6～20的芳基或它们的组合，Q₃表示单键、碳原子数为1～3的亚烷基或碳原子数为6～20的亚芳基，

式(5)

式(5)中，R₉和R₁₀分别表示碳原子数为1～10的取代或未取代的烷基、碳原子数为1～6的羟基烷基、羟基、卤基、羧基或碳原子数为1～10的烷氧基。

5.根据权利要求2所述的正型抗蚀剂组合物，其中，成分(A)的碱溶性聚合物是除了包含权利要求3所述的式(2)所示结构单元和权利要求3所述的式(3)所示结构单元以外，还包含权利要求4所述的式(4)所示结构单元和/或权利要求4所述的式(5)所示结构单元的聚合物，且当将构成聚合物(A)的全部结构单元的总数设为1.0时，构成聚合物(A)的式(2)所示结构单元的比例n2、式(3)所示结构单元的比例n3、式(4)所示结构单元的比例n4和式(5)所示结构单元的比例n5满足0.2≤n2≤0.8、0.1≤n3≤0.7、0≤n4≤0.4、0≤n5≤0.4、且0.3≤n2+n3+n4+n5≤1.0。