[发明专利]具有气体阻挡性能的固化的有机基聚硅氧烷树脂膜及其生产方法有效
申请号: | 200980126500.7 | 申请日: | 2009-06-26 |
公开(公告)号: | CN102105305A | 公开(公告)日: | 2011-06-22 |
发明(设计)人: | 伊藤真树;须藤通孝;栉引信男;畑中秀克;江口胜哉;E·D·卡特索里斯 | 申请(专利权)人: | 道康宁东丽株式会社;陶氏康宁公司 |
主分类号: | B32B27/28 | 分类号: | B32B27/28;C08L83/04;C08L83/06;C08L83/05;C08J7/04 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 张钦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 气体 阻挡 性能 固化 有机 基聚硅氧烷 树脂 及其 生产 方法 | ||
1.一种具有气体阻挡性能的固化的有机基聚硅氧烷树脂膜,其特征在于:在下述膜上形成含有机官能团的固化的有机基聚硅氧烷层,所述膜在可见光区域内透明且包括在(C)氢化硅烷化反应催化剂存在下通过(A)和(B)之间的交联反应获得的固化的有机基聚硅氧烷树脂:
(A)用平均硅氧烷单元式RaSiO(4-a)/2(1)表示且每一分子平均具有至少1.2个C2-C10不饱和脂族烃基的有机基聚硅氧烷树脂,
在该式中,R是C1-C10单价烃基,和a是平均值范围为0.5<a<2的数值;
(B)每一分子具有至少两个与硅键合的氢原子的有机基硅化合物,和
在固化的有机基聚硅氧烷层上形成选自氮氧化硅层、氮化硅层和氧化硅层的透明无机层。
2.权利要求1的具有气体阻挡性能的固化的有机基聚硅氧烷树脂膜,其特征在于有机官能团是含氧的有机官能团。
3.权利要求2的具有气体阻挡性能的固化的有机基聚硅氧烷树脂膜,其特征在于含氧的有机官能团是丙烯酸类官能团、环氧官能团或氧杂环丁烷官能团。
4.权利要求3的具有气体阻挡性能的固化的有机基聚硅氧烷树脂膜,其特征在于丙烯酸类官能团是丙烯酰氧基烷基官能团或甲基丙烯酰氧基烷基官能团,和环氧官能团是环氧丙氧烷基或环氧基环己基烷基。
5.权利要求1的具有气体阻挡性能的固化的有机基聚硅氧烷树脂膜,其特征在于用平均硅氧烷单元式(1)表示的有机基聚硅氧烷树脂由通式[X(3-b)R1bSiO1/2]表示的至少一个硅氧烷单元(在该式中,X是C2-C10单价不饱和脂族烃基,R1是除了X以外的C1-C10单价烃基,和b为0、1或2)和用通式[R2SiO3/2]表示的至少一个硅氧烷单元(在该式中,R2是除了X以外的C1-C10单价烃基)或者用通式[X(3-b)R1bSiO1/2]表示的至少 一个硅氧烷单元(在该式中,X是C2-C10单价不饱和脂族烃基,R1是除了X以外的C1-C10单价烃基,和b为0、1或2),用通式[R2SiO3/2]表示的至少一个硅氧烷单元(在该式中,R2是除了X以外的C1-C10单价烃基),和用通式[SiO4/2]表示的至少一个硅氧烷单元组成。
6.权利要求5的具有气体阻挡性能的固化的有机基聚硅氧烷树脂膜,其特征在于有机基聚硅氧烷树脂用下述平均硅氧烷单元式表示:
[X(3-b)R1bSiO1/2]v[R2SiO3/2]w (2)
在该式中,X、R1、R2和b如权利要求5中所定义,0.8<w<1.0,和v+w=1;或者用下述平均硅氧烷单元式表示
[X(3-b)R1bSiO1/2]x[R2SiO3/2]y[SiO4/2]z (3)
在该式中,X、R1、R2和b如权利要求5中所定义,0<x<0.4,0.5<y<1,0<z<0.4,和x+y+z=1。
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