[发明专利]改进的气体可渗透性细胞培养装置及使用方法

权利要求书

1.一种气体可渗透性培养装置，包括：

一个进入孔，和

一侧壁、一顶壁和一底壁，和

多于一个的支架，一个位于另一个之上，每个所述的支架通过一空间隔离，所述的空间形成细胞隔间，和

一歧管，连接所述的进入孔至所述的细胞隔间，和

至少一个气体隔间，所述的气体隔间具有一开口，其与环境气体相流通，并且所述的气体隔间具有至少一个由气体可渗透性材料构成的壁，所述的至少一个由气体可渗透性材料构成的壁不是支架。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述的气体隔间的至少一个由气体可渗透性材料构成的壁通常定位为垂直于所述支架。

3.根据权利要求2所述的装置，其中所述的支架具有一支架开口并且所述的气体隔间穿透所述的支架开口。

4.根据权利要求1所述的装置，其中所述的一个气体可渗透性材料的壁存在于每个细胞隔间中。

5.根据权利要求1所述的装置，其中所述的侧壁由气体可渗透性材料构成。

6.根据权利要求1所述的装置，其中所述的侧壁不由气体可渗透性材料构成。

7.根据权利要求1所述的装置，其中一个朝向所述的气体隔间的开口是存在的并且定位在所述的底部上。

8.根据权利要求1所述的装置，其中一个朝向所述的气体隔间的开口是存在的并且定位在所述的顶部上。

9.根据权利要求1所述的装置，其中一个朝向所述的气体隔间的开口位于所述的侧壁上。

10.根据权利要求1所述的装置，其中所述的气体隔间形成所述装置的周界的一部分，以使得朝向所述气体隔间的所述开口穿透所述的顶部和/或所述的底部和所述的侧壁。

11.根据权利要求1所述的装置，其中朝向所述气体隔间的所述开口位于两个相对的壁上，从而所述的气体隔间是一个穿过整个气体可渗透性装置的开口。

12.根据权利要求1所述的装置，其中朝向所述气体隔间的所述开口通常为矩形的形状。

13.根据权利要求1所述的装置，其中该气体可渗透性装置的所述侧壁的至少一部分由气体可渗透性材料构成。

14.根据权利要求1所述的装置，其中所述的支架包括聚苯乙烯材料。

15.根据权利要求1所述的装置，其中所述的气体隔间的所述至少一个壁的所述气体可渗透性材料为硅树脂。

16.根据权利要求15所述的装置，其中所述硅树脂的厚度为约0.022英寸或更小。

17.根据权利要求1所述的装置，其中所述的支架具有一开口，所述的气体隔间穿透该开口。

18.根据权利要求1所述的装置，其中两个进入孔被置于该装置的相对末端。

19.根据权利要求18所述的装置，其中所述的气体隔间开口为矩形并且所述开口对于所述气体隔间的最长侧通常垂直于存在于进入孔附近的相对末端。

20.根据权利要求1所述的装置包，其括气体隔间支撑结构。

21.根据权利要求1所述的装置，其中位于最上面的支架之上的空间超过任意其它的支架之间的空间。

22.根据权利要求1所述的装置，其中一间隙存在于所述的支架和壁之间，所述的侧壁和/或所述的气体隔间的所述的一个壁临近所述的支架。

23.根据权利要求1所述的装置，其中朝向所述气体隔间的所述开口的宽度为至少0.1英寸。

24.在权利要求1所述的装置中，在任意所述支架的上表面上到气体可渗透性材料的最远位置的距离不超过任意其它所述支架上表面上的最远位置到气体可渗透性材料的距离。