[发明专利]正型放射线敏感性组合物和抗蚀图案形成方法

权利要求书

1.一种正型放射线敏感性组合物，其在抗蚀图案形成方法的工序(1)中使用，所述抗蚀图案形成方法包含：工序(1)，使用第一正型放射线敏感性组合物在基板上形成第一抗蚀图案；工序(2)，通过使所述第一抗蚀图案对光或热钝化，从而使其对第二正型放射线敏感性组合物不溶；和工序(3)，使用所述第二正型放射线敏感性组合物，在形成有所述第一抗蚀图案的基板上形成第二抗蚀图案，

所述正型放射线敏感性组合物含有(B)具有酸不稳定基团和交联基团的聚合物、(C)放射线敏感性酸产生剂和(D)溶剂。

2.如权利要求1所述的正型放射线敏感性组合物，其进一步含有(A)具有酸不稳定基团但不具有交联基团的聚合物。

3.如权利要求2所述的正型放射线敏感性组合物，其中，所述聚合物(A)和所述聚合物(B)含有：

下述通式(1)表示的具有酸不稳定基团的重复单元，和

选自下述通式(2-1)～(2-5)和下述式(2-6)中的至少一个的具有内酯结构的重复单元、或下述通式(2-7)表示的重复单元，

所述通式(1)中，R¹表示氢原子、甲基或三氟甲基；R²相互独立地表示碳原子数为1～4的直链状或支链状的烷基、或碳原子数为4～20的1价脂环式烃基，或表示任意两个R²相互结合并与各自结合的碳原子一起形成的碳原子数为4～20的2价脂环式烃基或其衍生物，剩余的R²表示碳原子数为1～4的直链状或支链状的烷基、或碳原子数为4～20的1价脂环式烃基或其衍生物，

所述通式(2-1)中，R³表示氢原子或碳原子数为1～4的取代或非取代的烷基，p表示1～3的整数；所述通式(2-4)和(2-5)中，R⁴表示氢原子或甲氧基；所述通式(2-2)和(2-3)中，A表示单键或亚甲基，m表示0或1；所述通式(2-3)和(2-5)中，B表示氧原子或亚甲基，

所述通式(2-7)中，R¹⁰表示氢原子、甲基或三氟甲基，R¹¹相互独立地表示氢原子或碳原子数为1～5的链状烃基，D表示单键、碳原子数为1～30的2价或3价链状烃基、碳原子数为3～30的2价或3价脂环式烃基、或者碳原子数为6～30的2价或3价芳香族烃基；其中，D为3价时，D所含有的碳原子与构成环状碳酸酯的碳原子结合，形成环结构；n表示2～4的整数。

4.如权利要求1～3中任一项所述的正型放射线敏感性组合物，其中，所述聚合物(B)含有下述通式(3-1)和(3-2)中的至少任一通式表示的重复单元，

所述通式(3-1)和(3-2)中，R¹表示氢原子、甲基或三氟甲基；所述通式(3-1)中，R⁵表示亚甲基、亚乙基或亚丙基，R⁶表示下述通式(4)所示的基团或下述通式(5)所示的基团；所述通式(3-2)中，R⁷表示亚甲基或碳原子数为2～6的亚烷基，R⁸表示氢原子、甲基或乙基；n表示0或1，

所述通式(4)和(5)中，R⁹相互独立地表示氢原子或1～10的直链状或支链状的烷基。

5.如权利要求4所述的正型放射线敏感性组合物，其中，相对于所述聚合物(B)所含有的重复单元的总和100mol％，所述聚合物(B)所含有的、所述通式(3-1)或(3-2)表示的重复单元的比例为1～30mol％。