[发明专利]一种电子元件的接触单元的测位方法及装置

权利要求书

1.一种电子元件上接触单元(2，3)的测位方法，包括以下步骤：

将所述接触单元(2，3)置于校准空间内；

照明所述接触单元(2，3)；

通过具有与校准平面平行延伸的第一像平面的一号照相机(4)，拍摄所述接触单元(2，3)的第一图像；

通过二号照相机(5)拍摄所述接触单元的第二图像；

处理所述第一图像来测定在每个所述接触单元(2，3)上每个所述接触单元(2，3)的第一图像点，其中，所述每个第一图像点是位于每个所述接触单元(2，3)上的点；

处理所述第二图像来测定在每个所述接触单元(2，3)上每个所述接触单元(2，3)的第二图像点；其中，所述每个所述接触单元(2，3)上的第二图像点和第一图像点对应在每个所述接触单元(2，3)的同一点上；

通过位置映射算法来测定第二图像上的第三图像点；

以及测定在所述第二图像上所述第二图像点和第三图像点之间的位移，其中所述第三图像点由所述第一图像点正交投影于所述校准平面上得到。

2.如权利要求1所述方法，其特征在于，所述位移通过z轴比例因子和所述第二图像点和第三图像点的坐标差的乘积得到。

3.如权利要求1所述方法，其特征在于，本发明方法还包括推导用于计算所述一号和二号照相机(5)之间精确相对位置的所述位置映射算法。

4.如权利要求1所述方法，其特征在于，本发明方法还包括推导用于测定所述第二图像点和所述正交投影图像点的位移的z轴比例因子。

5.如权利要求1所述方法，其特征在于，还包括测定校准空间中任意两个点之间的位移。

6.一种用于电子元件上接触单元(2，3)的测位装置，包括：

用于照明预先放置在标准空间中所述接触单元(2，3)的照明光源(7，8)；

一号照相机(4)和二号照相机(5)；

所述一号照相机(4)和二号照相机(5)分别用于拍摄所述接触单元(2，3)的第一和第二图像；

一处理装置，该装置与所述一号照相机(4)和二号照相机(5)连接，用以得到每个接触单元(2，3)在所述第一图像上第一图像点的位置和每个接触单元(2，3)在第二图像上第二图像点的位置，每个所述接触单元(2，3)的所述第一图像点和第二图像点对应在每个所述接触单元(2，3)的同一点上，在所述第二图像上通过位置映射算法得到第三图像点的位置，所述第三图像点由所述第一图像点正交投影所得，以及测定所述第二图像点和第三图像点的位移。

7.一种如权利要求6所述用于电子元件上接触单元(2，3)的测位装置，其特征在于，所述处理装置通过z轴比例因子和所述第二图像点和第三图像点的坐标差的乘积得到所述位移。

8.一种如权利要求6所述用于电子元件上接触单元(2，3)的测位装置，其特征在于，还包括一校准用掩模版(9)，该掩模版的图像由第一和第二照相机(4，5)拍摄得到，所述处理装置从校准用掩模版的图像，推导出用于计算所述一号和二号照相机(4，5)之间精确相对位置的位置映射算法。

9.一种如权利要求8所述用于电子元件上接触单元(2，3)的测位装置，其特征在于，所述校准用掩模版(9)包括其上设有经过处理的特征标记的基层和其上设有特征标记的多层，所述多层的厚度是精确已知的，且相对于所述基层上的特征标记是精确定位的。

10.一种如权利要求8所述用于电子元件上接触单元(2，3)的测位装置，其特征在于，所述处理装置导出用于测定所述第二图像点和第三图像点之间位移的z轴比例因子。

11.一种如权利要求7所述用于电子元件上接触单元(2，3)的测位装置，其特征在于，所述处理装置测定在所述校准空间内任意两点之间的位移。

12.一种如权利要求6所述用于电子元件上接触单元(2，3)的测位装置，其特征在于，所述测位装置还包括与所述处理装置相连的三号照相机(6)，该照相机用于拍摄所述接触单元的第三图像，所述第三图像具有第四图像点和第五图像点，其中所述第五图像点是所述第一图像点正交投影所得的点且不位于所述第二图像中，同时，所述处理装置测定所述第四图像点和所述第五图像点之间的位移。