[发明专利]成像系统

权利要求书

1.一种带电粒子多子束系统，其用于使用多个子束对目标(11)进行曝光，该系统包括：

带电粒子源(1)，用于生成带电粒子波束(20)；

子束孔径阵列(4D)，其用于从所生成的波束定义多组子束(23)；

子束阻断器阵列(6)，其包括用于可控地阻断子束的阻断器的阵列；

波束终止阵列(8)，其用于阻断由所述阻断器偏转的子束，该波束终止阵列包括孔径阵列，每个波束终止孔径对应一个或多个阻断器；以及

投影透镜系统的阵列(10)，其用于将子束投影到所述目标的表面上，

其中所述系统将源成像到所述波束终止阵列处的平面上、所述投影透镜系统的有效透镜平面处的平面上、或者所述波束终止阵列和投影透镜系统的有效透镜平面之间的平面上，并且所述系统将所述子束孔径阵列成像在所述目标上。

2.如权利要求1所述的系统，其中所述源通过聚光透镜阵列(5C)被投影到所述波束终止阵列处的平面上、所述投影透镜系统的有效透镜平面处的平面上、或者所述波束终止阵列和所述投影透镜系统的有效透镜平面之间的平面上。

3.如权利要求2所述的系统，其中所述聚光透镜阵列位于所述子束孔径阵列的上游。

4.如前述权利要求中的任一项所述的系统，还包括次波束孔径阵列(4C)，其用于从所生成的波束定义次波束(25)，其中所述子束孔径阵列从次波束定义多组子束。

5.如权利要求4所述的系统，其中所述次波束通过聚光透镜阵列被聚焦到所述波束终止阵列处的平面上、所述投影透镜系统的有效透镜平面处的平面上、或者所述波束终止阵列和所述投影透镜系统的有效透镜平面之间的平面上。

6.如权利要求5所述的系统，其中所述聚光透镜阵列位于所述次波束孔径阵列和所述子束孔径阵列之间。

7.如前述权利要求中的任一项所述的系统，其中所述子束孔径阵列和所述子束阻断器阵列被集成在一起。

8.如前述权利要求中的任一项所述的系统，其中所述波束终止阵列的孔径限制于系统中。

9.一种带电粒子多子束系统，其用于使用多个子束对目标进行曝光，该系统包括：

带电粒子源，其用于生成带电粒子波束；

第一孔径阵列，其用于从所生成的波束定义多组子束；

第二孔径阵列；

子束阻断器阵列，其包括用于可控地阻断子束的阻断器的阵列；

波束终止阵列，其用于阻断由阻断器偏转的子束，所述波束终止阵列包括孔径阵列，每个波束终止孔径对应多个阻断器；以及

投影透镜系统的阵列，其用于将子束投影到所述目标的表面上，

其中所述系统将源成像到所述子束阻断器阵列处的平面上，并且所述系统将所述子束阻断器阵列成像到所述目标上。

10.如权利要求9所述的系统，其中所述源通过第一聚光透镜阵列被成像到所述第二孔径阵列处的平面上。

11.如权利要求9或10所述的系统，还包括第二聚光透镜阵列，其用于将多组子束汇聚到所述波束终止阵列处的平面上、所述投影透镜系统的有效透镜平面处的平面上、或者所述波束终止阵列和所述投影透镜系统的有效透镜平面之间的平面上。

12.如权利要求11所述的系统，其中所述聚光透镜阵列的每个透镜将一组子束汇聚到所述波束终止阵列的相应孔径上。

13.如权利要求11或12所述的系统，其中所述第二聚光透镜阵列位于所述第一聚光透镜阵列和所述第二孔径阵列之间。

14.如权利要求9或10所述的系统，还包括子束操控器，其用于将多组子束向每个组的公共汇聚点汇聚。

15.如权利要求14所述的系统，其中所述每组子束的公共点汇聚位于所述波束终止阵列中相应的孔径处。

16.如权利要求14或15所述的系统，其中所述子束操控器包括子束组偏转器。

17.如权利要求9至16中的任一项所述的系统，其中所述第二孔径阵列和所述子束阻断器阵列被集成在一起。

18.如权利要求9至17中的任一项所述的系统，其中所述波束终止阵列的孔径限制于系统中。