[发明专利]从低纯度水制造高纯度水的方法及制造装置

权利要求书

1.一种从低纯度水制造高纯度水的方法，其特征在于，依次进行如下工序：

使可形成气体水化物的一种或两种以上的气体与低纯度水在为比低纯度水的冰点高的温度且可形成气体水化物的条件下接触，得到在低纯度水中悬浮的固体的气体水化物的工序，

一边实质上维持气体水化物状态，一边将在气体水化物形成过程中使用的低纯度水脱水，使用清洗水清洗附着于气体水化物的成分的工序，

通过形成与气体水化物状态相比的高温状态或低压状态，将气体水化物转化为气体和高纯度水的工序。

2.如权利要求1所述的从低纯度水制造高纯度水的方法，其特征在于，在清洗附着于气体水化物的成分的工序中的清洗水起初为低纯度水，渐渐地或顺次地，使用纯度高的水。

3.如权利要求2所述的从低纯度水制造高纯度水的方法，其特征在于，使用低纯度水清洗附着于气体水化物的成分的工序具有：新鲜低纯度水和气体水化物的搅拌工序、和排出在低纯度水中悬浮的气体水化物中的低纯度水的工序；并且实施这两个工序一次或重复实施。

4.如权利要求2或3所述的从低纯度水制造高纯度水的方法，其特征在于，对于清洗附着于气体水化物的成分的工序中的清洗水最终阶段的使用高纯度水的清洗而言，将气体水化物堆积于网眼状基板上或从下方送入至网眼状基板，并且使高纯度水从气体水化物上方流下，利用比重比高纯度水轻的气体水化物由于水的浮力而浮起的特质，将上层的气体水化物从清洗场所除去。

5.如权利要求2或3所述的从低纯度水制造高纯度水的方法，其特征在于，对于清洗附着于气体水化物的成分的工序中的清洗水最终阶段的使用高纯度水的清洗而言，在网眼状基板上薄板状地敷设气体水化物，从上方实施高纯度水生成的喷雾，从网眼状基板的网眼排出清洗后的高纯度水。

6.如权利要求1～5中任一项所述的从低纯度水制造高纯度水的方法，其特征在于，低纯度水是海水。

7.如权利要求1～5中任一项所述的从低纯度水制造高纯度水的方法，其特征在于，低纯度水是污水。

8.一种从低纯度水制造高纯度水的装置，其特征在于，其具备：

气体水化物的原料的供给设备，

在气体水化物形成条件下将气体水化物的原料形成为气体水化物的气体水化物形成槽，

清洗槽，其可兼做气体水化物形成槽或另行准备，其对形成气体水化物时所用的低纯度水进行脱水，使用清洗水清洗所形成的气体水化物，

气体水化物分解槽，其形成与清洗了的气体水化物迄今保持的气体水化物状态相比的高温状态或低压状态，得到高纯度水。

9.如权利要求8所述的从低纯度水制造高纯度水的装置，其特征在于，清洗槽具有：使用低纯度水清洗所形成的气体水化物的清洗槽、以及使用高纯度水清洗使用低纯度水清洗了的气体水化物的清洗装置。

10.如权利要求9所述的从低纯度水制造高纯度水的装置，其特征在于，对于使用高纯度水清洗气体水化物的清洗装置而言，将气体水化物堆积于网眼状基板上或从下方送入至网眼状基板，使高纯度水从气体水化物上方流下，从设置于清洗槽侧壁上方的排出口将比重比高纯度水轻的气体水化物单独或连同水一起移送至气体水化物分解槽。

11.如权利要求9所述的从低纯度水制造高纯度水的装置，其特征在于，对于使用高纯度水清洗气体水化物的清洗装置而言，在网眼状基板上薄板状地敷设气体水化物，从上方实施高纯度水生成的喷雾，从网眼状基板的网眼排出清洗后的高纯度水。

12.如权利要求11所述的从低纯度水制造高纯度水的装置，其特征在于，网眼状基板为带式运送方式。

13.如权利要求8或9所述的从低纯度水制造高纯度水的装置，其特征在于，清洗槽在清洗槽的下方具有搅拌叶片和搅拌轴，具有在清洗槽上方中心部的漏斗部、从漏斗下部由清洗槽侧壁连通至下一工序的连通口；

通过搅拌而清洗了的气体水化物从漏斗的上端，通过漏斗、连通口，转移至下一工序。