[发明专利]氧化钛分散体及配合该氧化钛分散体的化妆品

权利要求书

1. 氧化钛分散体，其特征在于，含有以下的(a)～(c)，

(a) 进行了疏水化处理的氧化钛处理粉体

(b) 选自异十六烷、异十二烷、2-乙基己酸2-乙基己酯、异壬酸异壬酯、异壬酸2-乙基己酯、2-乙基己酸异壬酯、二新戊酸聚丙二醇酯中的一种或两种以上的油分

(c) 下述通式(1)表示的硅氧烷化合物

R¹_aR²_bR³_cSiO_{(4－a－b－c)/2}  (1)

[式中，R¹是选自碳原子数为1～18的烷基、芳基、芳烷基、氟取代烷基、氨基取代烷基、羧基取代烷基或下述通式(2)所示的有机基团中的、以至少一种以上的碳原子数为10以上的烷基作为必须成分的相同或不同的有机基团，

-C_mH_2m-O-(C₂H₄O)_d(C₃H₆O)_e-R⁴ (2)

R²为选自具有下述通式(3)所示的聚氧亚烷基的有机基团或下述通式(4)所示的有机基团中的相同或不同的有机基团，

-C_mH_2m-O-(C₂H₄O)_f(C₃H₆O)_g-R⁵ (3)

-Q-O-X (4)

(式中，Q表示可以含有醚键和酯键中的至少一方的碳原子数为3～20的二价烃基，X表示具有至少2个羟基的多元醇取代烃基),

R³为下述通式(5)所示的有机聚硅氧烷

[化1]

(其中，R⁴是碳原子数为4～30的烃基或R⁶-(CO)-所示的有机基团，R⁵为氢原子、碳原子数为1～30的烃基或R⁶-(CO)-所示的有机基团，R⁶是碳原子数为1～30的烃基，d、e分别为0≤d≤50的整数、0≤e≤50的整数，f、g分别为2≤f≤200的整数、0≤g≤200的整数，且f＋g为3～200，h为1≤h≤500的整数，此外，m、n分别为0≤m≤15的整数、1≤n≤5的整数，此外，a、b、c分别为1.0≤a≤2.5、0.001≤b≤1.5、0.001≤c≤1.5)]。

2. 如权利要求1所述的氧化钛分散体，其特征在于，(a)氧化钛处理粉体为将二氧化硅被覆或氧化铝被覆的氧化钛进行处理而得到的粉体。

3. 如权利要求2所述的氧化钛分散体，其特征在于，(a)氧化钛处理粉体为将二氧化硅被覆氧化钛用硅烷偶联剂和阳离子性表面活性剂进行处理而得到的。

4. 如权利要求1所述的氧化钛分散体，其特征在于，(a)氧化钛处理粉体的配合量为25～60质量%。

5. 如权利要求1所述的氧化钛分散体，其特征在于，(c)硅氧烷化合物的配合量为3～10质量%。

6. 化妆品，其特征在于，配合权利要求1～5中任意一项所述的氧化钛分散体。

7. 如权利要求6所述的化妆品，其特征在于，为水包油型乳化化妆品。

8. 如权利要求6所述的化妆品，其特征在于，还含有选自二乙基氨基羟基苯甲酰基苯甲酸己酯、乙基己基三嗪、叔丁基甲氧基二苯甲酰基甲烷、双乙基己氧基苯酚甲氧基苯基三嗪、二乙基己基丁酰胺基三嗪酮、羟甲氧苯酮-3中的一种或两种以上作为油溶性紫外线吸收剂。