[发明专利]基于空间光调制器(SLM)的光衰减器有效

专利信息
申请号: 200980131841.3 申请日: 2009-08-14
公开(公告)号: CN102150069A 公开(公告)日: 2011-08-10
发明(设计)人: 杰斐逊·L·瓦格纳;托马斯·安德鲁·斯特拉瑟 申请(专利权)人: 尼斯迪卡有限公司
主分类号: G02B26/02 分类号: G02B26/02
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 谷惠敏;穆德骏
地址: 美国新*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 基于 空间 调制器 slm 衰减器
【权利要求书】:

1.一种用于衰减光束的方法,包括:

选择要被应用到光束的衰减水平;

在二维空间光调制器(SLM)中选择接通状态和关断状态的像素的图案,以便所述图案将调制所述光束以提供选择的所述衰减水平;以及

在以选择的所述图案布置所述像素的同时,将所述光束引导到所述SLM上,其中,所述图案沿着第一轴是周期性的,并且关于第二轴是对称的,其中,所述光束的强度分布沿着所述第二轴延伸。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述光束具有沿着所述第一轴延伸的不对称强度分布。

3.根据权利要求1所述的方法,进一步包括:将所述光束在空间上散布到沿着所述SLM的所述第一轴分布的多个波长内。

4.根据权利要求3所述的方法,进一步包括:将所述多个波长在被所述SLM调制后重新组合,以形成重新组合的光束,所述重新组合的光束具有能够根据波长而改变的选择的所述衰减水平。

5.根据权利要求1所述的方法,其中,选择的所述图案的周期性小于所述光束的直径。

6.根据权利要求1所述的方法,其中,所述图案具有下述区域,即,所述区域向所述光束的、在其中任何局部强度最大值的任一侧上的部分施加基本上相同的衰减水平。

7.根据权利要求1所述的方法,其中,所述图案具有下述区域,即,所述区域向所述光束的、在局部强度最大值的任一侧上的如下部分施加基本上相同的衰减水平,即,在所述部分中,存在最大强度改变速率。

8.根据权利要求3所述的方法,其中,选择的所述图案的周期性在比每一个独立波长的光束直径大的距离上改变,由此施加能够对于不同的波长范围选择性地改变的、相对均匀的衰减水平。

9.根据权利要求3所述的方法,其中,选择的所述图案的周期性在比每一个独立波长的光束直径小的距离上改变,由此对于特定波长范围施加标称地连续的衰减水平改变。

10.根据权利要求9所述的方法,其中,在高带宽信号的特定波长范围内的所述连续的衰减水平改变被选择,以改善在所述特定波长范围内的至少一个高带宽信号的信号完整性。

11.根据权利要求10所述的方法,其中,在高带宽信号的所述特定波长范围内的选择的所述衰减水平改变跨过近似线性的所述信号的最高强度而产生作为波长的函数的衰减改变。

12.根据权利要求10所述的方法,其中,在高带宽信号的所述特定波长范围内的选择的所述衰减水平改变跨过近似二次的所述信号的最高强度带宽而产生作为波长的函数的衰减改变。

13.根据权利要求10所述的方法,其中,选择的所述衰减水平在高带宽信号的所述特定波长内改变,以跨过信号的最高强度部分而产生衰减改变,所述衰减改变补充在传输路径上产生的之前的波长相关的衰减,从而引起所述信号的最高强度部分的整体上的与波长无关的净衰减。

14.根据权利要求10所述的方法,其中,来自在传输系统的一端的接收光电探测器的反馈被用来选择在高带宽信号的特定波长范围内的所述衰减水平改变。

15.根据权利要求3所述的方法,其中,所述图案包括多个周期衰减图案,所述多个周期衰减图案被布置以最小化在不同的衰减水平的图案之间的过渡处的强度扰动。

16.根据权利要求15所述的方法,其中,所述周期衰减图案被选择,从而在图案的每列上具有与整个周期图案的平均衰减非常近似的平均衰减水平。

17.根据权利要求15所述的方法,其中,所述周期衰减图案被选择,从而保证部分周期图案具有与整个周期图案的平均衰减非常近似的平均衰减水平。

18.一种光学装置,包括:

输入端口,用于接收光束;以及,

SLM,具有用于接收所述光束的表面,其中,所述表面包括像素阵列,使得所述光束入射在多个所述像素上,每一个所述像素处于多个离散状态之一中,所述多个离散状态向入射在其上的光能提供不同量的调制,其中以将所述光束衰减期望量的状态的图案来布置所述像素,其中,所述图案沿着第一轴是周期性的,并且沿着第二轴是对称的,所述光束的强度分布沿着所述第二轴延伸。

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