[发明专利]快速获取椭圆偏光法

权利要求书

1.一种光学组件，包括：

第一光学元件，所述第一光学元件包括第一旋光楔形物，所述第一旋光楔形物被配置成对在第一方向上穿过的线偏振光施加偏振的第一空间依赖旋转；以及

第二光学元件，所述第二光学元件包括第二旋光楔形物，所述第二旋光楔形物被配置成对在第二方向上穿过的线偏振光施加偏振的第二空间依赖旋转；

其中，所述第一光学元件和所述第二光学元件被配置成当所述第二光学元件相对于所述第一光学元件被适当地定位和定向时，对线偏振光束施加空间独立旋转，所述线偏振光束在所述第一方向上穿过所述第一光学元件且在所述第二方向上穿过所述第二光学元件。

2.如权利要求1所述的光学组件，其中，所述第一光学元件还包括第一指数匹配楔形物，所述第一指数匹配楔形物被配置成使得在所述第一方向上行进的光束穿过所述第一光学元件的空间独立厚度。

3.如权利要求1所述的光学组件，其中，所述第二光学元件还包括第二指数匹配楔形物，所述第二指数匹配楔形物被配置成使得在所述第二方向上行进的光束穿过所述第二光学元件的空间独立厚度。

4.如权利要求1所述的光学组件，还包括当所述第二光学元件相对于所述第一光学元件被适当地定位和定向时，设置在所述第一光学元件与所述第二光学元件之间的波片。

5.如权利要求4所述的光学组件，其中，所述波片是四分之一波片。

6.如权利要求1所述的光学组件，其中，所述第一旋光楔形物包括两个基本上平坦的表面，使得所述第一旋光楔形物的厚度在至少一个维度上以规则的速率变化。

7.如权利要求1所述的光学组件，其中：

所述第一旋光楔形物是均质的并以第一旋光性为特征；

所述第二旋光楔形物是均质的并以第二旋光性为特征，其中，所述第二旋光性具有与所述第一旋光性相同的符号以及与所述第一旋光性相似的量值；以及

所述光学组件被配置成使得当所述第二光学元件相对于所述第一光学元件被适当地定位和定向时，即使所述第一旋光楔形物的厚度和所述第二旋光楔形物的厚度在空间上变化，光束的每个部分也穿过旋光材料的几乎相同的总厚度。

8.如权利要求1所述的光学组件，其中：

所述第一旋光楔形物是均质的并以第一旋光性为特征；

所述第二旋光楔形物是均质的并以第二旋光性为特征，其中，所述第二旋光性具有与所述第一旋光性相反的符号以及与所述第一旋光性相似的量值；以及

所述光学组件被配置成使得当所述第二光学元件相对于所述第一光学元件被适当地定位和定向时，即使所述第一旋光楔形物的厚度和所述第二旋光楔形物的厚度在空间上变化，穿过所述第一旋光楔形物的第一厚度的光束部分也穿过所述第二旋光楔形物的相似厚度。

9.一种用于评估样本的测量装置，包括：

光源，所述光源用于产生光束，其中，所述光束是基本上准直的；

光束扩展器，所述光束扩展器被配置成接收与所述样本相互作用后的光束，并且被配置成沿着扩展轴增大所述光束的空间分布；

波片组件，包括：

第一光学元件，所述第一光学元件包括第一旋光楔形物，所述第一旋光楔形物被配置成对在第一方向上穿过的线偏振光施加偏振的第一空间依赖旋转；以及

第二光学元件，所述第二光学元件包括第二旋光楔形物，所述第二旋光楔形物被配置成对在第二方向上穿过的线偏振光施加偏振的第二空间依赖旋转；

其中，所述第一光学元件和所述第二光学元件被配置成对线偏振光束施加空间独立旋转，所述线偏振光束在所述第一方向上穿过所述第一光学元件、以及在所述第二方向上穿过所述第二光学元件；以及

波片，所述波片设置在所述第一光学元件和所述第二光学元件之间；

检偏器；以及

光学检测器，所述光学检测器包括至少一维的光检测器元件阵列。

10.如权利要求9所述的测量装置，其中，所述第一光学元件还包括第一指数匹配楔形物，所述第一指数匹配楔形物被配置成使得在所述第一方向上穿过的光束穿过所述第一光学元件的空间独立厚度；并且所述第二光学元件还包括第二指数匹配楔形物，所述第二指数匹配楔形物被配置成使得在所述第二方向上行进的光束穿过所述第二光学元件的空间独立厚度。