[发明专利]用于制造图案形成体的方法和使用电磁束的加工装置

权利要求书

1.一种用于制造图案形成体的方法，在所述图案形成体上形成了点状图案，所述方法包括：

制备步骤，其中制备具有光致抗蚀剂层的基板，所述光致抗蚀剂层在用电磁束照射并因此被加热时发生形状变化；和

曝光步骤，其中用所述电磁束照射和扫描所述光致抗蚀剂层以去除所述光致抗蚀剂层的一部分，

其中在所述曝光步骤中，将所述电磁束的发射时间调整为落入与形成于所述光致抗蚀剂层上的多个凹坑在扫描方向上的间距相对应的扫描时间的10-40％以内。

2.根据权利要求1所述的用于制造图案形成体的方法，其中用所述电磁束以6-200m/s范围内的线速度扫描所述光致抗蚀剂层。

3.根据权利要求1或2所述的用于制造图案形成体的方法，所述方法在所述曝光步骤后还包括：使用所述光致抗蚀剂层作为掩模蚀刻所述基板的蚀刻步骤。

4.根据权利要求1或2所述的用于制造图案形成体的方法，所述方法还包括在所述曝光步骤后进行的下列步骤：

膜形成步骤，其中在通过所述光致抗蚀剂层的多个凹坑而露出所述基板的位置处的基板上形成膜；和

去除步骤，其中去除所述光致抗蚀剂层。

5.根据权利要求1所述的用于制造图案形成体的方法，其中将所述光致抗蚀剂层的厚度设定在1-10000nm的范围内。

6.根据权利要求1所述的用于制造图案形成体的方法，其中所述光致抗蚀剂层包含选自由以下染料组成的组中的至少一种染料：单次甲基花青染料、单次甲基氧杂菁染料、酞菁染料、偶氮染料、偶氮-金属配合物染料、卟啉染料、亚芳基染料、香豆素染料、唑衍生物、三嗪衍生物、苯并三唑衍生物、1-氨基丁二烯衍生物和喹酞酮染料。

7.根据权利要求1所述的用于制造图案形成体的方法，其中将所述电磁束的输出设定在4-200mW的范围内。

8.一种使用电磁束制造图案形成体的加工装置，在所述图案形成体上形成点状图案，所述加工装置包括：

支持器，用于支持具有光致抗蚀剂层的基板，所述光致抗蚀剂层在用电磁束照射并因此被加热时发生形状变化；

束源，用于发射电磁束；

扫描设备，用于使用从所述束源发射的电磁束扫描所述光致抗蚀剂层；和

控制装置，用于执行控制，以使从所述束源发射的电磁束的输出产生变化，

其中所述控制装置使得发射所述束的发射时间在与形成于所述光致抗蚀剂层上的多个凹坑在扫描方向上的间距相对应的扫描时间的10-40％的范围内，以在所述光致抗蚀剂层上形成多个点状凹坑。