[发明专利]用于辨识光纤结构中的高阶模的光纤结构和方法

权利要求书

1.一种光纤结构，包括：

在所述光纤结构(700)的芯(710)的外面的一个或多个折射率干扰(750，760)，用于辨识在所述光纤结构(700)中的一个或多个高阶模。

2.如权利要求1所述的光纤结构，其中，所述一个或多个折射率干扰(750，760)适于修改高阶模的模区域分布。

3.如权利要求1或2所述的光纤结构，其中，所述一个或多个折射率干扰(750，760)适于减小在光纤结构(700)中的基模和高阶模之间的空间重叠。

4.如权利要求1-3的任何一项所述的光纤结构，其中，所述一个或多个折射率干扰(750，760)安置到所述光纤结构(700)的包层(720，730，740)中。

5.如权利要求1-4的任何一项所述的光纤结构，其中，所述一个或多个折射率干扰(750，760)包括围绕所述芯(710)的第一折射率干扰(750)和围绕所述第一折射率干扰(750)的第二折射率干扰(760)。

6.如权利要求1-5的任何一项所述的光纤结构，其中，所述一个或多个折射率干扰(750，760)包括适于覆盖用于高阶模的芯(710)外面的第一峰的第一折射率干扰(750)和适于覆盖用于高阶模的芯(710)外面的第二峰的第二折射率干扰(760)。

7.如权利要求1-6的任何一项所述的光纤结构，其中，所述一个或多个折射率干扰(750，760)包括具有与所述包层(720，730，740)的折射率不同的第一折射率的第一折射率干扰(750)和具有与所述包层(720，730，740)的折射率不同的第二折射率的第二折射率干扰(760)。

8.如权利要求1-7的任何一项所述的光纤结构，其中，所述芯(710)的折射率与所述第一折射率干扰(750)的第一折射率相同或者实质上相同，所述第二折射率干扰(760)的第二折射率属于所述一个或多个折射率干扰(750，760)。

9.如权利要求1-8的任何一项所述的光纤结构，其中，所述光纤结构(700)是多模光纤。

10.如权利要求1-9的任何一项所述的光纤结构，其中，所述芯(710)是掺杂的。

11.如权利要求1-10的任何一项所述的光纤结构，其中，所述一个或多个折射率干扰(750，760)的至少一个是掺杂的。

12.一种方法，包括：

通过一个或多个折射率干扰(750，760)干扰光纤结构(700)的芯(710)外面的折射率，用于辨识所述光纤结构(700)中的一个或多个高阶模。

13.如权利要求12所述的方法，其中，所述干扰折射率包括修改高阶模的模区域分布。

14.如权利要求12或13所述的方法，其中，所述干扰折射率包括减少所述光纤结构(700)中的基模和高阶模之间的空间重叠。

15.如权利要求12-14的任何一项所述的方法，其中，所述一个或多个折射率干扰(750，760)安置到所述光纤结构(700)的包层(720，730，740)中。

16.如权利要求12-15的任何一项所述的方法，其中，所述一个或多个折射率干扰(750，760)包括围绕所述芯(710)的第一折射率干扰(750)和围绕所述第一折射率干扰(750)的第二折射率干扰(760)。

17.如权利要求12-16的任何一项所述的方法，其中，所述方法包括：限定(820)所述光纤结构(700)中的高阶模。

18.如权利要求12-17的任何一项所述的方法，其中，所述方法进一步包括：

限定(830)用于属于所述一个或多个折射率干扰(750，760)的第一折射率干扰(750)距离所述芯(710)的径向距离，以及

限定(830)所述第一折射率干扰(750)的厚度和高度以使得所述第一折射率干扰(750)覆盖用于所述高阶模的所述芯(710)外面的第一峰。