[发明专利]像差修正方法、使用其的激光加工方法、激光照射方法、像差修正装置和像差修正程序有效
申请号: | 200980134183.3 | 申请日: | 2009-08-27 |
公开(公告)号: | CN102138097A | 公开(公告)日: | 2011-07-27 |
发明(设计)人: | 伊藤晴康;松本直也;井上卓 | 申请(专利权)人: | 浜松光子学株式会社 |
主分类号: | G02F1/01 | 分类号: | G02F1/01;B23K26/06;B23K26/073;H01S3/10 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 修正 方法 使用 激光 加工 照射 装置 程序 | ||
1.一种像差修正方法,其特征在于,
是将激光聚光于具有光透过性的介质内部的激光照射装置的像差修正方法,
在所述像差修正方法中,
以所述激光的聚光点位于在所述介质内部所产生的像差范围之间的方式,修正所述激光的像差。
2.如权利要求1所述的像差修正方法,其特征在于,
所述激光照射装置具备用于将激光聚光于所述介质内部的聚光单元,
在将所述介质的折射率定义为n,将假设所述介质的折射率n等于所述聚光单元气氛介质的折射率时的自所述介质的入射面至所述聚光单元的焦点为止的深度定义为d,将通过所述介质而产生的纵像差的最大值定义为Δs时,
以所述激光的聚光点位于自所述介质的入射面起大于n×d且小于n×d+Δs的范围内的方式,修正所述激光的像差。
3.如权利要求1所述的像差修正方法,其特征在于,
所述激光照射装置具备用于将激光聚光于所述介质内部的聚光透镜以及用于修正所述激光的像差的空间光调制器,
与所述聚光透镜的入射部对应的所述空间光调制器上的任意像素中的相位调制量和与所述像素邻接的像素中的相位调制量的相位差为能够应用相位折叠技术的相位范围以下。
4.如权利要求1所述的像差修正方法,其特征在于,
以使修正波阵面的相位值具有极大点以及极小点的方式,设定所述激光的聚光点。
5.一种激光加工方法,其特征在于,
是激光加工装置的激光加工方法,
该激光加工装置具备:
生成激光的光源;
用于调制来自所述光源的激光的相位的空间光调制器;以及
用于将来自所述空间光调制器的激光聚光在加工对象物内部的加工位置上的聚光透镜,
在所述激光加工方法中,
设定所述加工对象物内部的所述加工位置,
以使所述加工位置位于未修正像差时在所述加工对象物内部存在纵像差的范围之间的方式,设定所述加工对象物的相对移动量,
以所述激光聚光在所述加工位置上的方式计算出修正波阵面,并显示在所述空间光调制器中,
以使所述加工对象物与所述聚光透镜的距离成为所述相对移动量的方式,相对地移动所述聚光位置,
将来自所述光源的激光朝向所述加工对象物中的加工位置照射。
6.一种激光照射方法,其特征在于,
是介质内激光聚光装置的激光照射方法,
该介质内激光聚光装置具备:
生成激光的光源;
用于调制来自所述光源的激光的相位的空间光调制器;以及
用于使来自所述空间光调制器的激光聚光在介质内部的规定的聚光位置上的聚光透镜,
在所述激光照射方法中,
设定所述介质内部的所述聚光位置,
以使所述聚光位置位于未修正像差时在所述介质内部存在纵像差的范围之间的方式,设定所述介质的相对移动量,
以所述激光聚光在所述聚光位置上的方式计算出修正波阵面,并显示在所述空间光调制器中,
以使所述介质与所述聚光透镜的距离成为所述相对移动量的方式,相对地移动所述聚光位置,
将来自所述光源的激光朝向所述介质中的聚光位置照射。
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