[发明专利]制造氮化物衬底的方法和氮化物衬底有效
申请号: | 200980134190.3 | 申请日: | 2009-08-26 |
公开(公告)号: | CN102137960A | 公开(公告)日: | 2011-07-27 |
发明(设计)人: | 荒川聪;宫永伦正;樱田隆;山本喜之;中幡英章 | 申请(专利权)人: | 住友电气工业株式会社 |
主分类号: | C30B29/38 | 分类号: | C30B29/38;B24B1/00;C30B33/00;H01L21/304 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 孙志湧;穆德骏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 氮化物 衬底 方法 | ||
1.一种制造氮化物衬底(10)的方法,包括以下步骤:
生长氮化物晶体(22);以及
从所述氮化物晶体(22)切割包括前表面(11)的氮化物衬底(10),
其中,在所述的切割的步骤中,切割所述氮化物衬底(10)以使得在与所述前表面(11)正交的轴和m轴或a轴之间形成的偏离角大于零。
2.根据权利要求1所述的制造氮化物衬底(10)的方法,其中,
在所述的切割的步骤中,切割所述氮化物衬底(10)以使得所述氮化物衬底(10)包括具有第一区域(12)和围绕所述第一区域(12)的第二区域(13)的所述前表面(11),并且所述偏离角在所述第二区域(13)中的第一点(13a)处具有最小值。
3.根据权利要求2所述的制造氮化物衬底(10)的方法,其中,
在所述的切割的步骤中,切割所述氮化物衬底(10)以使得所述第二区域(13)在距离所述氮化物衬底(10)的边缘2mm以内。
4.根据权利要求2所述的制造氮化物衬底(10)的方法,其中,
在所述的切割的步骤中,切割所述氮化物衬底(10)以使得所述偏离角在所述第二区域(13)中的第二点(13b)处具有最大值,并且所述偏离角从所述第二点(13b)向所述第一点(13a)单调减小。
5.根据权利要求1所述的制造氮化物衬底(10)的方法,其中,
在所述的切割的步骤中,在c轴方向上沿着与相对于a面或m面倾斜的平面相平行的平面,从所述氮化物晶体(22)切割所述氮化物衬底(10)。
6.根据权利要求1所述的制造氮化物衬底(10)的方法,在所述的切割的步骤之后,还包括对所述氮化物衬底(10)的所述前表面(11)进行抛光和研磨中的至少一项的步骤。
7.根据权利要求1所述的制造氮化物衬底(10)的方法,其中,
在所述的切割的步骤中,切割多个所述氮化物衬底(10)。
8.一种制造氮化物衬底(10)的方法,包括以下步骤:
在c轴方向上,生长包括前表面(22a)和与所述前表面(22a)相反的后表面(22b)的氮化物晶体(22);以及
从所述氮化物晶体(22)切割氮化物衬底(10),
其中,在所述的切割的步骤中,沿着穿过所述氮化物晶体(22)的所述前表面(22a)和所述后表面(22b)的且没有穿过连接所述氮化物晶体(22)的所述前表面(22a)的曲率半径的中心和所述后表面(22b)的曲率半径的中心的线段的平面,从所述氮化物晶体(22)切割所述氮化物衬底(10)。
9.根据权利要求8所述的制造氮化物衬底(10)的方法,其中,
在所述的切割的步骤中,切割所述氮化物衬底(10)以使得所述氮化物衬底(10)包括具有第一区域(12)和围绕所述第一区域(12)的第二区域(13)的前表面(11),并且所述偏离角在所述第二区域(13)中的第一点(13a)处具有最小值。
10.根据权利要求9所述的制造氮化物衬底(10)的方法,其中,
在所述的切割的步骤中,切割所述氮化物衬底(10)以使得所述第二区域(13)在距离所述氮化物衬底(10)的边缘2mm以内。
11.根据权利要求9所述的制造氮化物衬底(10)的方法,其中,
在所述的切割的步骤中,切割所述氮化物衬底(10)以使得所述偏离角在所述第二区域(13)中的第二点(13b)处具有最大值,并且所述偏离角从所述第二点(13b)向所述第一点(13a)单调减小。
12.根据权利要求8所述的制造氮化物衬底(10)的方法,其中,
在所述的切割的步骤中,在c轴方向上沿着与相对于a面或m面倾斜的平面相平行的平面,从所述氮化物晶体(22)切割所述氮化物衬底(10)。
13.根据权利要求8所述的制造氮化物衬底(10)的方法,
在所述的切割的步骤之后,还包括对所述氮化物衬底(10)的前表面(11)进行抛光和研磨中的至少一项的步骤。
14.根据权利要求8所述的制造氮化物衬底(10)的方法,其中,
在所述的切割的步骤中,切割多个所述氮化物衬底(10)。
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