[发明专利]制造氮化物衬底的方法和氮化物衬底有效

专利信息
申请号: 200980134190.3 申请日: 2009-08-26
公开(公告)号: CN102137960A 公开(公告)日: 2011-07-27
发明(设计)人: 荒川聪;宫永伦正;樱田隆;山本喜之;中幡英章 申请(专利权)人: 住友电气工业株式会社
主分类号: C30B29/38 分类号: C30B29/38;B24B1/00;C30B33/00;H01L21/304
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 孙志湧;穆德骏
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 制造 氮化物 衬底 方法
【权利要求书】:

1.一种制造氮化物衬底(10)的方法,包括以下步骤:

生长氮化物晶体(22);以及

从所述氮化物晶体(22)切割包括前表面(11)的氮化物衬底(10),

其中,在所述的切割的步骤中,切割所述氮化物衬底(10)以使得在与所述前表面(11)正交的轴和m轴或a轴之间形成的偏离角大于零。

2.根据权利要求1所述的制造氮化物衬底(10)的方法,其中,

在所述的切割的步骤中,切割所述氮化物衬底(10)以使得所述氮化物衬底(10)包括具有第一区域(12)和围绕所述第一区域(12)的第二区域(13)的所述前表面(11),并且所述偏离角在所述第二区域(13)中的第一点(13a)处具有最小值。

3.根据权利要求2所述的制造氮化物衬底(10)的方法,其中,

在所述的切割的步骤中,切割所述氮化物衬底(10)以使得所述第二区域(13)在距离所述氮化物衬底(10)的边缘2mm以内。

4.根据权利要求2所述的制造氮化物衬底(10)的方法,其中,

在所述的切割的步骤中,切割所述氮化物衬底(10)以使得所述偏离角在所述第二区域(13)中的第二点(13b)处具有最大值,并且所述偏离角从所述第二点(13b)向所述第一点(13a)单调减小。

5.根据权利要求1所述的制造氮化物衬底(10)的方法,其中,

在所述的切割的步骤中,在c轴方向上沿着与相对于a面或m面倾斜的平面相平行的平面,从所述氮化物晶体(22)切割所述氮化物衬底(10)。

6.根据权利要求1所述的制造氮化物衬底(10)的方法,在所述的切割的步骤之后,还包括对所述氮化物衬底(10)的所述前表面(11)进行抛光和研磨中的至少一项的步骤。

7.根据权利要求1所述的制造氮化物衬底(10)的方法,其中,

在所述的切割的步骤中,切割多个所述氮化物衬底(10)。

8.一种制造氮化物衬底(10)的方法,包括以下步骤:

在c轴方向上,生长包括前表面(22a)和与所述前表面(22a)相反的后表面(22b)的氮化物晶体(22);以及

从所述氮化物晶体(22)切割氮化物衬底(10),

其中,在所述的切割的步骤中,沿着穿过所述氮化物晶体(22)的所述前表面(22a)和所述后表面(22b)的且没有穿过连接所述氮化物晶体(22)的所述前表面(22a)的曲率半径的中心和所述后表面(22b)的曲率半径的中心的线段的平面,从所述氮化物晶体(22)切割所述氮化物衬底(10)。

9.根据权利要求8所述的制造氮化物衬底(10)的方法,其中,

在所述的切割的步骤中,切割所述氮化物衬底(10)以使得所述氮化物衬底(10)包括具有第一区域(12)和围绕所述第一区域(12)的第二区域(13)的前表面(11),并且所述偏离角在所述第二区域(13)中的第一点(13a)处具有最小值。

10.根据权利要求9所述的制造氮化物衬底(10)的方法,其中,

在所述的切割的步骤中,切割所述氮化物衬底(10)以使得所述第二区域(13)在距离所述氮化物衬底(10)的边缘2mm以内。

11.根据权利要求9所述的制造氮化物衬底(10)的方法,其中,

在所述的切割的步骤中,切割所述氮化物衬底(10)以使得所述偏离角在所述第二区域(13)中的第二点(13b)处具有最大值,并且所述偏离角从所述第二点(13b)向所述第一点(13a)单调减小。

12.根据权利要求8所述的制造氮化物衬底(10)的方法,其中,

在所述的切割的步骤中,在c轴方向上沿着与相对于a面或m面倾斜的平面相平行的平面,从所述氮化物晶体(22)切割所述氮化物衬底(10)。

13.根据权利要求8所述的制造氮化物衬底(10)的方法,

在所述的切割的步骤之后,还包括对所述氮化物衬底(10)的前表面(11)进行抛光和研磨中的至少一项的步骤。

14.根据权利要求8所述的制造氮化物衬底(10)的方法,其中,

在所述的切割的步骤中,切割多个所述氮化物衬底(10)。

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