[发明专利]静电吸盘装置和基片的吸附状态判断方法

权利要求书

1.一种静电吸盘装置，在金属基盘的上表面侧具有吸附基片的静电吸盘，其特征在于：

具有用来判断基片的吸附状态的吸附判断单元。

2.如权利要求1所述的静电吸盘装置，其特征在于：

吸附判断单元是热流束传感器，利用通过静电吸盘传递的来自基片的热流判断基片的吸附状态。

3.如权利要求2所述的静电吸盘装置，其特征在于：

热流束传感器配设在金属基盘侧。

4.如权利要求3所述的静电吸盘装置，其特征在于：

热流束传感器配设成与金属基盘的上表面在同一面上。

5.如权利要求2～4中任一项所述的静电吸盘装置，其特征在于：

针对基片的平面区域在多个位置获得热流束。

6.一种基片的吸附状态判断方法，是在静电吸盘装置中判断基片的吸附状态的方法，该静电吸盘装置在金属基盘的上表面侧具有吸附基片的静电吸盘，其特征在于：

利用热流束传感器得到通过静电吸盘传递的来自基片的热流，从而判断基片的吸附状态。

7.如权利要求6所述的基片的吸附状态判断方法，其特征在于：

热流束传感器配设在金属基盘侧。

8.如权利要求7所述的基片的吸附状态判断方法，其特征在于：

热流束传感器配设成与金属基盘的上表面在同一面上。

9.如权利要求6～8中任一项所述的基片的吸附状态判断方法，其特征在于：

针对基片的平面区域在多个位置获得热流束。