[发明专利]兼容的光学记录介质有效

专利信息
申请号: 200980134705.X 申请日: 2009-08-24
公开(公告)号: CN102144260A 公开(公告)日: 2011-08-03
发明(设计)人: 瑟吉.克鲁施切夫;尤维.雷希克;斯蒂芬.基梅尔曼 申请(专利权)人: 汤姆森特许公司
主分类号: G11B7/007 分类号: G11B7/007;G11B7/013;G11B7/09;G11B7/26
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 吕晓章
地址: 法国伊西*** 国省代码: 法国;FR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 兼容 光学 记录 介质
【权利要求书】:

1.一种具有记录区域(16)以及用于寻道的引导结构(15)的光学记录介质(10),所述引导结构仅在一个或几个轨道螺旋或同心的轨道上延伸,其特征在于所述引导结构(15)位于所述记录区域(16)以外。

2.如权利要求1所述的光学记录介质,其中所述引导结构(15)位于导入区域(14)之前或位于导入区域(14)的开始处。

3.如权利要求1或2所述的光学记录介质,其中所述引导结构(15)为凸台/凹槽结构或者包括预记录的凹坑。

4.一种用于制造具有记录区域(16)以及用于寻道的引导结构(15)的光学记录介质(10)的方法,具有以下步骤:

-在基底(103)上至少施加记录层(105);

-在所述记录层(105)上至少施加覆盖层(106);以及

-在所述记录区域(16)以外形成用于寻道的引导结构(15),所述引导结构(15)仅在一个或几个轨道螺旋或同心的轨道上延伸。

5.如权利要求4所述的方法,其中在导入区域(14)之前或在导入区域(14)的开始处形成所述引导结构(15)。

6.如权利要求4或5所述的方法,其中在施加所述覆盖层(106)之前通过模制或者在施加所述覆盖层(106)之前或之后通过记录凹坑串来形成所述引导结构(15)。

7.如权利要求6所述的方法,其中通过向寻道致动器的寻道线圈施加电压斜坡而使用寻道致动器来记录所述凹坑串,所述电压斜坡在所述光学记录介质(10)的一转期间连续地增加,并且选择所述电压斜坡使得在所述光学记录介质(10)的完整的一转之后所述寻道致动器已经将记录光束在所述光学记录介质(10)上移动了轨道间距的量。

8.一种用于制造具有记录区域(16)以及用于寻道的引导结构(15)的光学记录介质(10)的装置,具有:

-用于在基底(103)上至少施加记录层(105)的部件;

-用于在所述记录层(105)上至少施加覆盖层(106)的部件;以及

-用于在所述记录区域(16)以外形成用于寻道的引导结构(15)的部件,所述引导结构(15)仅在一个或几个轨道螺旋或同心的轨道上延伸。

9.如权利要求8所述的装置,其中所述用于形成引导结构(15)的部件为用于在施加所述覆盖层(106)之前模制引导结构(15)的模制部件,或者为用于在施加所述覆盖层(106)之前或之后记录凹坑串的记录器。

10.一种用于对如权利要求1所述的光学记录介质(10)进行写入的方法,具有以下步骤:

-至少生成主光束(30)以及与所述主光束(30)耦合的另一光束(31);

-利用所述另一光束(31)照射引导结构(15);

-从通过所述引导结构(15)反射的所述另一光束(31)的一部分生成用于所述主光束(30)的寻道误差信号;以及

-利用所述主光束(30)将数据写入所述光学记录介质(10)使得所写入的数据形成所述引导结构(15)的延续部分。

11.如权利要求10所述的方法,其中所述主光束(30)与所述另一光束(31)在所述光学记录介质(10)上的距离为一个轨道间距的整数倍。

12.一种用于对如权利要求1所述的光学记录介质(10)进行写入的装置,具有:

-用于至少生成主光束(30)以及与所述主光束(30)耦合的另一光束(31)的部件(2,4);

-用于利用所述另一光束(31)照射引导结构(15)的部件(9);

-用于从通过所述引导结构(15)反射的所述另一光束(31)的一部分生成用于所述主光束(30)的寻道误差信号的部件(131,133);以及

-用于利用所述主光束(30)将数据写入所述光学记录介质(10)使得所写入的数据形成所述引导结构(15)的延续部分的部件(2,9)。

13.如权利要求12所述的装置,其中所述主光束(30)与所述另一光束(31)在所述光学记录介质(10)上的距离为一个轨道间距的整数倍。

14.一种用于制造具有记录区域(16)以及用于寻道的引导结构(15)的光学记录介质(10)的装置的模具,其特征在于其具有用于寻道的引导结构(15),所述引导结构(15)仅在所述记录区域(16)以外的一个或几个轨道螺旋或同心的轨道上延伸。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于汤姆森特许公司,未经汤姆森特许公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200980134705.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top