[发明专利]成像光学系统

权利要求书

1.具有多个反射镜(M1至M6)的成像光学系统(31)，其将物平面(5)中的物场(4)成像到像平面(9)中的像场(8)，其特征在于：在垂直于所述物平面(5)并延伸通过空间上最紧邻所述物场(4)的所述反射镜(M2)的几何中心点的连接轴(32)上，最紧邻所述物场(4)的所述反射镜(M2)布置成与所述物场(4)相距间距(A)，所述间距(A)大于所述成像光学系统的(31)的入射光瞳面(30)离所述物场(4)的间距(B)，所述光瞳面(30)位于所述物场(4)上游的成像光(30)的光束路径中。

2.具有多个反射镜(M1至M6)的成像光学系统(31)，其将物平面(5)中的物场(4)成像到像平面(9)中的像场(8)，

-具有入射光瞳面(30)，位于所述物场(4)上游的成像光(3)的光束路径中，其中所述成像光(3)在所述物平面(5)上被反射，

-具有连接轴(32)，垂直于所述物平面(5)并延伸通过入射光瞳的几何中心点，

-其中所述连接轴(32)与所述入射光瞳面(30)的交叉点(C)比中心物场点的主光束(33)与所述连接轴(32)的第一交叉点(D)更靠近所述物平面(5)，所述第一交叉点(D)在所述物场(4)的下游的成像光(3)的光束路径中；

-其中所述反射镜(M5、M6)的至少一个具有通路开口(18、19)，从而使成像光(3)通过。

3.具有多个反射镜(M1至M6)的成像光学系统(7；31)，其将物平面(5)中的物场(4)成像到像平面(9)中的像场(8)，其特征在于：所述成像光学系统(7；31)具有与第一反射镜(M5)间隔开的另外的可变形反射镜(M3)，所述第一反射镜(M5)最紧邻两个场(4、8)中的一个并被指定为相邻反射镜，所述可变形反射镜(M3)被布置于与所述成像光学系统(7；31)中的所述相邻反射镜的布置平面光学共轭的平面中。

4.具有多个反射镜(M1至M6)的成像光学系统(7；31)，其将物平面(5)中的物场(4)成像到像平面(9)中的像场(8)，其特征在于：反射镜(M5)的支撑体由其弹性模量为其他反射镜(M1至M4、M6)的至少一个的支撑体(22)材料的弹性模量的至少两倍大的材料制成，所述反射镜(M5)为最靠近两个场(4、8)中的一个的相邻反射镜。

5.如权利要求4所述的成像光学系统，其特征在于：所述相邻反射镜(M5)由弹性模量至少为150GPa的材料。

6.如权利要求5所述的成像光学系统，其特征在于：所述相邻反射镜(M5)由碳化硅制成。

7.如权利要求4至6的任一所述的成像光学系统，其特征在于：所述成像光学系统(7；31)具有与所述相邻反射镜(M5)间隔开的可变形反射镜(M3)。

8.如权利要求7所述的成像光学系统，其特征在于：所述可变形反射镜(M3)布置于与所述成像光学系统(7)中的所述相邻反射镜(M5)的布置平面光学共轭的平面中。

9.如权利要求4至8的任一所述的成像光学系统，其特征在于，所述成像光学系统(7；31)除所述相邻反射镜(M5)之外具有的所述反射镜(M1至M4、M6)是由热膨胀系数最高为1x10^-7m/m/K的材料构成。

10.如权利要求1至9的任一所述的成像光学系统，其特征在于：正好六个反射镜(M1至M6)。

11.如权利要求1至10的任一所述的成像光学系统，其特征在于：所述反射镜(M1至M6)的所述反射面的至少一个被构造为可由旋转对称非球面描述的表面。

12.如权利要求1至10的任一所述的成像光学系统，其特征在于：所述反射镜(M1至M6)的所述反射面的至少一个被构造为不能由旋转对称函数描述的自由形式表面。

13.如权利要求1或3至12的任一所述的成像光学系统，其特征在于：所述反射镜(M1至M6)的至少其中一个具有通路开口(18、19)以使成像光(3)通过。

14.一种光刻投射曝光系统，其特征在于：

-具有根据权利要求1至13的任一所述的成像光学系统(7；31)；

-具有照明和成像光(3)的光源；

-具有光学照明系统(6)，用于将所述照明光(2)导引到所述成像光学系统(7；31)的物场(4)。