[发明专利]二氧化氯的施用方法、系统和装置

权利要求书

1.一种用于把基本上无氧-氯阴离子的二氧化氯组合物递送到组织的装置，所述装置包括：

任选的背衬层；

二氧化氯源层，所述二氧化氯源层包括二氧化氯或产生二氧化氯的组分和氧-氯阴离子；以及

屏障层，所述屏障层被置于所述二氧化氯源层和所述组织之间，其中所述屏障层基本上禁止所述氧-氯阴离子穿过其中而允许所述基本上无氧-氯阴离子的二氧化氯组合物穿过其中。

2.如权利要求1所述的装置，其中所述二氧化氯源层包括二氧化氯的颗粒前体。

3.如权利要求1所述的装置，其中所述屏障层是选自由下列组成的组的膜：聚氨酯、聚丙烯、聚四氟乙烯、聚偏二氟乙烯、聚偏二氯乙烯、聚二甲硅氧烷和聚四氟乙烯的组合、聚苯乙烯、醋酸纤维素、聚硅氧烷及其组合。

4.一种用于把基本上无氧-氯阴离子的二氧化氯组合物递送到组织的系统，所述系统包括：

二氧化氯源，所述二氧化氯源包括二氧化氯或产生二氧化氯的组分和氧-氯阴离子；以及

氧-氯阴离子屏障，所述氧-氯阴离子屏障被置于所述二氧化氯源和所述组织之间，其中所述氧-氯阴离子屏障基本上禁止所述氧-氯阴离子穿过其中而允许所述基本上无氧-氯阴离子的二氧化氯组合物穿过其中，从而使能够把所述基本上无氧-氯阴离子的二氧化氯组合物递送到所述组织。

5.如权利要求4所述的系统，其中所述二氧化氯源包括二氧化氯的颗粒前体。

6.如权利要求4所述的系统，其中所述氧-氯阴离子屏障包括被置于所述二氧化氯源和所述组织之间的层。

7.如权利要求6所述的系统，其中所述氧-氯阴离子屏障是选自由下列组成的组的膜：聚氨酯、聚丙烯、聚四氟乙烯、聚偏二氟乙烯、聚偏二氯乙烯、聚二甲硅氧烷和聚四氟乙烯的组合、聚苯乙烯、醋酸纤维素、聚硅氧烷及其组合。

8.如权利要求4所述的系统，其中所述氧-氯阴离子屏障包括所述二氧化氯源在其中分散的基体。

9.如权利要求8所述的系统，其中所述基体选自由下列组成的组：蜡、聚乙烯、矿脂、聚硅氧烷、聚乙烯醇、乙烯醋酸乙烯酯(EVA)、聚氨酯及其混合物。

10.一种用于把基本上无氧-氯阴离子的二氧化氯组合物递送到组织的装置，所述装置包括背衬层和附着于所述背衬层的基体，其中所述基体包括：

二氧化氯源，所述二氧化氯源包含二氧化氯或产生二氧化氯的组分和氧-氯阴离子；以及

屏障物质，所述屏障物质基本上禁止所述氧-氯阴离子穿过其中而允许所述基本上无氧-氯阴离子的二氧化氯组合物穿过其中。

11.如权利要求10所述的装置，其中所述二氧化氯源包括二氧化氯的颗粒前体。

12.如权利要求10所述的装置，其中所述屏障物质选自由下列组成的组：聚氨酯、聚丙烯、聚四氟乙烯、聚偏二氟乙烯、聚偏二氯乙烯、聚二甲硅氧烷和聚四氟乙烯的组合、聚苯乙烯、醋酸纤维素、聚硅氧烷、聚环氧乙烷、聚丙烯酸酯、矿物油、固体石蜡、聚异丁烯、聚丁烯及其组合。

13.一种用于把基本上无氧-氯阴离子的二氧化氯组合物递送到组织的组合物，所述组合物包括基体，所述基体包含以下各物质：

二氧化氯源，所述二氧化氯源包括二氧化氯或产生二氧化氯的组分和氧-氯阴离子；以及

屏障物质，所述屏障物质基本上禁止所述氧-氯阴离子穿过其中而允许所述基本上无氧-氯阴离子的二氧化氯组合物穿过其中，从而使能够把所述基本上无氧-氯阴离子的二氧化氯组合物递送到所述组织。

14.如权利要求13所述的组合物，其中所述二氧化氯源包括二氧化氯的颗粒前体。

15.如权利要求13所述的组合物，其中所述屏障物质选自由下列组成的组：聚氨酯、聚丙烯、聚四氟乙烯、聚偏二氟乙烯、聚偏二氯乙烯、聚二甲硅氧烷和聚四氟乙烯的组合、聚苯乙烯、醋酸纤维素、聚硅氧烷、聚环氧乙烷、聚丙烯酸酯、矿物油、固体石蜡、聚异丁烯、聚丁烯及其组合。