[发明专利]基板处理液和使用该处理液的抗蚀基板处理方法

权利要求书

1.一种抗蚀基板处理液，其处理具有显影后的光抗蚀图案的抗蚀基板，其特征在于，含有不溶解前述光抗蚀图案的溶剂、以及可溶解于前述溶剂的聚合物。

2.如权利要求1所述的抗蚀基板处理液，其中，前述聚合物为水溶性聚合物。

3.如权利要求2所述的抗蚀基板处理液，其中，前述水溶性聚合物为具有重复单元的共聚物，该重复单元来自于丙烯酸、甲基丙烯酸、乙烯基醇和乙烯基吡咯烷酮以及它们的衍生物构成的群组中选出的单体。

4.如权利要求1～3任一项所述的抗蚀基板处理液，其中，前述溶剂选自水、醇以及它们的混合物。

5.如权利要求4所述的抗蚀基板处理液，其中，前述溶剂含有水。

6.如权利要求1～5任一项所述的抗蚀基板处理液，其中，以前述抗蚀基板处理液的总重量为基准，含有0.1～10重量％可溶解前述光抗蚀层的溶解性调整剂。

7.如权利要求1～6任一项所述的抗蚀基板处理液，其中，进一步含有表面活性剂。

8.一种抗蚀基板的处理方法，其特征在于，将显影处理后的抗蚀基板与抗蚀基板处理液接触，并进行冲洗处理，其中所述抗蚀基板处理液含有不溶解存在于前述抗蚀基板表面上的光抗蚀图案的溶剂、以及可溶解于前述溶剂的聚合物。

9.如权利要求8所述的抗蚀基板的处理方法，其中，在将显影处理后的抗蚀基板与前述抗蚀基板处理液接触后，接着进行烘焙处理，然后再进行冲洗处理。

10.如权利要求8或9所述的抗蚀基板的处理方法，其中，前述聚合物能够溶解于用于前述冲洗处理的冲洗液。

11.一种除去抗蚀剂残渣的方法，其特征在于，将显影处理后的抗蚀基板与抗蚀基板处理液接触，并进行冲洗处理，从而除去附着在抗蚀基板表面上的抗蚀剂残渣，其中所述抗蚀基板处理液含有不溶解存在于前述抗蚀基板表面上的光抗蚀图案的溶剂、以及可溶解于前述溶剂的聚合物。

12.一种调整抗蚀图案尺寸的方法，其特征在于，将显影处理后的抗蚀基板与抗蚀基板处理液接触，并进行冲洗处理，从而除去抗蚀图案的表面，调整抗蚀图案的尺寸，其中，所述抗蚀基板处理液含有不溶解存在于前述抗蚀基板表面上的光抗蚀图案的溶剂、以及可溶解于前述溶剂的聚合物。