[发明专利]氟化处理方法和氟化处理装置以及氟化处理装置的使用方法有效
申请号: | 200980136617.3 | 申请日: | 2009-09-10 |
公开(公告)号: | CN102159747A | 公开(公告)日: | 2011-08-17 |
发明(设计)人: | 渡边崇则;岩村英明;南克治 | 申请(专利权)人: | 爱沃特株式会社 |
主分类号: | C23C8/08 | 分类号: | C23C8/08 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氟化 处理 方法 装置 以及 使用方法 | ||
一种氟化处理方法,其特征在于,其是在规定的氟化气氛的氟化处理空间内对被处理物进行加热保持而进行氟化处理的氟化处理方法,其中,使与氟具有反应性的空间内结构物露出于所述氟化处理空间内,并以在露出于所述氟化处理空间内的空间内结构物的表面预先形成有氟化层的状态下进行所述氟化处理。
根据权利要求1所述的氟化处理方法,其中,在预先形成于所述空间内结构物表面的氟化层中,氟浓度在5质量%以上的部分的厚度为1.3μm以上。
根据权利要求1所述的氟化处理方法,其中,在氟化处理中,至少在比被处理物更高温的部分形成的氟化层中氟浓度在5质量%以上的部分的厚度为1.3μm以上。
一种氟化处理装置,其特征在于,其是在规定的氟化气氛的氟化处理空间内对被处理物进行加热保持而进行氟化处理的氟化处理装置,其是以将与氟具有反应性的空间内结构物露出于所述氟化处理空间内且以在露出于所述氟化处理空间内的空间内结构物的表面预先形成有氟化层的状态进行所述氟化处理的方式构成的。
根据权利要求4所述的氟化处理装置,其还具备在所述氟化处理之后进行后处理的后处理空间,所述氟化处理空间与后处理空间独立地存在并且设置有用于从所述氟化处理室向后处理室输送被处理物的输送机构。
根据权利要求5所述的氟化处理装置,其中,所述氟化处理室形成为以被处理物的输送方向作为轴的圆筒状。
一种氟化处理装置的使用方法,其特征在于,其是在规定的氟化气氛的氟化处理空间内对被处理物进行加热保持而进行氟化处理的氟化处理装置的使用方法,
在所述氟化处理装置中,使与氟具有反应性的空间内结构物露出于所述氟化处理空间内,并以在露出于所述氟化处理空间内的空间内结构物的表面预先形成有氟化层的状态进行所述氟化处理,
预先形成于所述空间内结构物的表面的氟化层的氟量小于规定量时,进行以规定的氟化气氛对氟化处理空间内进行加热保持的预氟化处理,从而恢复所述氟化层。
根据权利要求7所述的氟化处理装置的使用方法,在氟化处理空间内配置与所述空间内结构物的表面构成材料相同材料的试验片,并根据所述试验片的状态来检测反复进行氟化处理时形成于空间内结构物的表面的氟化层的氟量。
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