[发明专利]用于增加微生物对3-羟基丙酸(3-HP)的耐受性以及增加3-羟基丙酸产量的方法、系统和组合物

权利要求书

1.一种经遗传修饰的微生物，其包含：

a.至少一个遗传修饰以产生3-羟基丙酸(“3-HP”)；和

b.3-HP耐受形成性复合物(“3HPTGC”)的至少一个遗传修饰，以有效地使所述经遗传修饰的微生物的3-HP耐受性增加至超过不含所述3HPTGC的至少一个遗传修饰的对照微生物的3-HP耐受性。

2.权利要求1的经遗传修饰的微生物，其中所述产生3-HP的至少一个遗传修饰使微生物的3-HP合成增加至超过不含所述的产生3-HP的至少一个遗传修饰的对照微生物的速率或效价。

3.权利要求1的经遗传修饰的微生物，其中所述3HPTGC的至少一个遗传修饰有效使所述经遗传修饰的微生物的3-HP耐受性相对于对照微生物的3-HP耐受性增加至少大约5％，至少大约10％，至少大约20％，至少大约30％，或至少大约50％。

4.一种经遗传修饰的微生物，其包含3-羟基丙酸(“3-HP”)耐受形成性复合物(“3HPTGC”)的组A至F中的两个或更多个中的每一个的至少一个遗传修饰。

5.权利要求4的经遗传修饰的微生物，其中所述3HPTGC遗传修饰有效使所述经遗传修饰的微生物的3-HP耐受性相对于对照微生物的3-HP耐受性增加至少大约5％，至少大约10％，至少大约20％，至少大约30％，或至少大约50％。

6.权利要求4或5的经遗传修饰的微生物，其中所述经遗传修饰的微生物产生3-HP。

7.权利要求4或5的经遗传修饰的微生物，其中所述对照微生物产生3-HP。

8.权利要求4或5的经遗传修饰的微生物，其中所述对照微生物不产生3-HP。

9.权利要求1-8任一项的经遗传修饰的微生物，其中所述至少一个3HPTGC遗传修饰包括组A的至少一个遗传修饰和组B的至少一个遗传修饰。

10.权利要求1-8任一项的经遗传修饰的微生物，其中至少一个3HPTGC遗传修饰包括组A的至少一个遗传修饰和组C的至少一个遗传修饰。

11.权利要求1-8任一项的经遗传修饰的微生物，其中至少一个3HPTGC遗传修饰包括组A的至少一个遗传修饰和组D的至少一个遗传修饰。

12.权利要求1-8任一项的经遗传修饰的微生物，其中至少一个3HPTGC遗传修饰包括组A的至少一个遗传修饰和组E的至少一个遗传修饰。

13.权利要求1-8任一项的经遗传修饰的微生物，其中至少一个3HPTGC遗传修饰包括组B的至少一个遗传修饰和组C的至少一个遗传修饰。

14.权利要求1-8任一项的经遗传修饰的微生物，其中至少一个3HPTGC遗传修饰包括组B的至少一个遗传修饰和组D的至少一个遗传修饰。

15.权利要求1-8任一项的经遗传修饰的微生物，其中至少一个3HPTGC遗传修饰包括组B的至少一个遗传修饰和组E的至少一个遗传修饰。

16.权利要求1-8任一项的经遗传修饰的微生物，其中至少一个3HPTGC遗传修饰包括组C的至少一个遗传修饰和组D的至少一个遗传修饰。

17.权利要求1-8任一项的经遗传修饰的微生物，其中至少一个3HPTGC遗传修饰包括组C的至少一个遗传修饰和组E的至少一个遗传修饰。

18.权利要求1-8任一项的经遗传修饰的微生物，其中至少一个3HPTGC遗传修饰包括组D的至少一个遗传修饰和组E的至少一个遗传修饰。

19.前述权利要求任一项的经遗传修饰的微生物，其中至少一个3HPTGC遗传修饰包括选自tyrR、trpR、metJ、purR、lysR、nrdR、和等同的阻抑基因的一个或多个3HPTGC阻抑基因的至少一个遗传修饰。

20.权利要求19的经遗传修饰的微生物，其中至少一个3HPTGC遗传修饰包括破坏，所述至少一个3HPTGC遗传修饰包括一个或多个3HPTGC抑制基因的至少一个遗传修饰。