[发明专利]用于物理气相沉积腔室的遮盘有效

专利信息
申请号: 200980138000.5 申请日: 2009-09-21
公开(公告)号: CN102160146A 公开(公告)日: 2011-08-17
发明(设计)人: K·M·布朗;J·舒浩勒 申请(专利权)人: 应用材料股份有限公司
主分类号: H01L21/203 分类号: H01L21/203
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陆嘉
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 用于 物理 沉积
【权利要求书】:

1.一种遮盘(shutter disk),包含:

一碟状主体,该主体包含:

一顶表面;

一底表面;

一外径部(outer diameter),设置于该顶表面及该底表面之间;以及

一双重梯部,连接该底表面至该外径部。

2.如权利要求1所述的遮盘,其中该双重梯部更包含:

一外梯部及一内梯部,该外梯部相对于该内梯部更延伸进入该主体。

3.如权利要求2所述的遮盘,其中该主体更包含:

一外壁,连接该外梯部至该内梯部,且该外壁实质平行于该主体的一中心线。

4.如权利要求3所述的遮盘,其中该内梯部及该外梯部实质垂直于该主体的该中心线。

5.如权利要求1所述的遮盘,其中该主体更包含:

一环状沟槽,形成于该底表面中而设置在该双重梯部的径向内侧。

6.如权利要求5所述的遮盘,其中该双重梯部更包含:

一外梯部及一内梯部,该外梯部延伸进入该主体的程度大于该内梯部,但少于该环状沟槽。

7.如权利要求1所述的遮盘,其中该主体更包含:

一盲孔,形成于该主体的该底表面中,且该盲孔的一中心线与该主体的一中心线为共直线(co-linear)。

8.如权利要求1所述的遮盘,其中该主体是由铝、铝合金、铝硅合金、金属复合材料及铝硅(AlSi)的至少其中之一所制成;且其中该主体的该顶表面涂覆有一铝涂层。

9.如权利要求1所述的遮盘,其中该主体更包含:

一倾斜表面,耦接该外径部至该顶表面。

10.如权利要求9所述的遮盘,其中该主体更包含:

一盲孔,形成于该主体的该底表面中,且该盲孔的一中心线与该主体的一中心线为共直线。

11.如权利要求9所述的遮盘,其中该双重梯部更包含:

一外梯部及一内梯部,该内梯部相较于该外梯部而更延伸进入该主体中。

12.一种遮盘,包含:

一碟状主体,该主体包含:

一顶表面;

一底表面;

一外径部,设置于该顶表面及该底表面之间;

一外梯部,形成于该底表面上;

一内梯部,形成于该底表面上而位于该外梯部的内侧,该外梯部较该内梯部而更延伸进入该主体;

一外壁,连接该外梯部至该内梯部,且该外壁实质平行于该主体的一中心线;以及

一环状沟槽,形成于该底表面中而位于该内梯部的径向内侧。

13.如权利要求12所述的遮盘,其中该内梯部与该外梯部实质垂直于该主体的该中心线,且该外梯部延伸进入该主体的程度大于该内梯部,但少于该环状沟槽。

14.如权利要求13所述的遮盘,其中该主体更包含:

一盲孔,形成于该主体的该底表面中,且该盲孔的一中心线与该主体的一中心线为共直线。

15.如权利要求13所述的遮盘,其中该主体是由铝、铝合金、铝硅合金、金属复合材料及铝硅(AlSi)中的至少其中之一所制成;以及

其中该顶表面的平均粗糙度介于约600至约800Ra间,且该顶表面涂覆有一双弧喷涂铝涂层。

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